二手 EBARA EPO-223 #9394796 待售

EBARA EPO-223
ID: 9394796
晶圆大小: 8"
优质的: 1997
CMP systems, 8" 1997 vintage.
EBARA EPO-223是一种最先进的晶片研磨、研磨和抛光设备,其设计目的是在半导体和其他材料制成的晶片成形和精加工时提供卓越的精度。该系统非常适合要求高精度和可重复性的应用程序。EPO-223是一个两轴研磨、研磨和抛光装置,能够独立于两个轴的倾斜和旋转。这种功能使机器能够精确地完成各种形状和角度的晶片。它还允许为不同的应用程序快速轻松地设置该工具。EBARA EPO-223具有适合于多种材料的两级磨轮,可用于广泛的晶圆整理任务。研磨阶段和抛光阶段均由单独的电动机驱动,从而使EPO-223能够对过程的每个步骤进行高度控制。EBARA EPO-223是一项功能齐全的资产,具有集成式安全模型,其中包括紧急停止开关和尖端的数字控制面板-使操作员能够最终控制研磨、研磨和抛光过程。EPO-223还为每个轴设置了一个专用控制面板,可以设置和编程这些控制面板,以执行各种针对独特晶圆形状和尺寸的研磨例程。EBARA EPO-223的数字控制面板还具有一系列预先编程的设置和调整功能,以帮助用户快速启动和运行,并确保长期可重复的结果。EPO-223包括诊断功能,包括远程和本地诊断功能,允许用户快速检测和排除任何潜在问题。该设备有多种配置,可以灵活地满足客户的任何需求。EBARA EPO-223是一种低温冷却研磨、研磨和抛光设备,其设计目的是在半导体和其他材料制成的晶片成形和精加工时提供卓越的精度。该系统具有可靠、可靠的设计、集成的安全系统和数字控制面板,是许多不同应用程序的理想选择。
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