二手 ENM G27-55AGC #170195 待售

ENM G27-55AGC是一种工业晶圆研磨、研磨和抛光设备,用于1mm （40mil）至0.5 mm （20mil）的基材。它具有高效的机械设计,经济高效且可靠。这种研磨和抛光系统非常适合要求精细表面光洁度、超精密表面状态监控和严格表面均匀性的应用。G27-55AGC包括独特的砂轮配置,利用金刚石砂轮和辅助砂轮提供高度的精确度和可重复性。金刚石砂轮为精密研磨和研磨而设计，提供了快速、高效的研磨工艺。这种精密研磨还可以精确控制表面光洁度、均匀性和准确性。辅助轮可调节，以配合金刚石轮尺寸。这使设备能够创建分辨率为0.2 μ m的高精度曲面轮廓。ENM G27-55AGC还包括一台专有的静水空气承载机，用于确保芯片的疏散和控制在研磨和研磨过程中产生的颗粒。该工具提高了晶片的质量，消除了晶片表面残留的碎屑和其他碎屑，提高了精度和均匀性。在提高生产速度的同时，空气轴承资产也消除了对不可生物降解冷却剂的需求。该模型还包括一个5轴抛光站，用于调整基板的表面粗糙度和均匀度。该站具有从0-30度调整表面光洁度和抛光方向的能力，角精度为0.02度。抛光站可用于分析抛光晶片的各种应用，包括但不限于纹理、去除污染物和表面瑕疵、增加排便和提高反射率。G27-55AGC还采用了高效设计，以最小限度的维护将污染风险降至最低。该机配备了多种安全功能，包括过温防护、自动停电和内置除尘设备。这将安全风险降至最低，并提供更清洁的工作环境。总体而言,ENM G27-55AGC是一种经济高效且可靠的晶圆研磨、研磨和抛光系统,可实现高精度和重复性,同时提供最大的表面均匀性。它非常适合要求超精密表面状况监测和要求其基板上严格表面均匀性的公司。