二手 G&N MPS 2 R300 #9000439 待售

G&N MPS 2 R300是晶圆研磨、研磨、抛光系统，专为加工硅、GaAs、InP等单晶半导体基板而设计。该机采用模块化、半自动化的生产工艺对这些基板进行精密金刚石研磨、研磨和抛光。该机配备了三个截然不同的湿处理模块，每个模块专门用于流程的一个特定阶段，每个模块都配备了独立的功能，使其高度适应一系列需求和应用。G&N MPS2-R300是一种单晶片串联系统，具有电机驱动的三级滚子输送机，在单个单元中提供精确的研磨、研磨和抛光。通过这些特点，该机提供了较高的工艺速度和优越的晶圆处理，精度和可重复性。磨削模组为单晶片机，具有专门设计的磨头，精确控制金刚石磨轮。该模块为各种不同的基板提供高精度研磨,用于加工直径低至5毫米的几何形状以及200毫米以下的不规则形状的基板。研磨模组包含一个精密控制的搭盘，有各种磨料和托架操作。此模块用于创建表面特性的均匀性,以便在成品晶片中生成所需的规范。抛光模组与研磨研磨模组相似，使用相同的电动机驱动载波和旋转台。该模块利用多种等级的金刚石抛光垫在基板上产生高度抛光的表面。综上所述，MPS 2R300是专门为硅、GaAs、InP等半导体基板设计的晶圆研磨、研磨、抛光系统。这台符合人体工程学设计的机器提供了一个模块化、半自动化的生产平台，用于对这些基板进行精密研磨、研磨和抛光，实现了高工艺速度和优越的晶圆处理、精度和可重复性。