二手 G&N MPS 2 R300 #9153417 待售

G&N MPS 2 R300是一种晶圆研磨、研磨和抛光设备,旨在为各种研究和生产应用提供快速、精确的晶圆表面抛光。G&N MPS2-R300配备了专有的G&N主磨削技术，提供了晶圆精确且可重复的表面光洁度。它能够抛光直径最大为12英寸的晶片,总抛光精度优于12英寸晶片上的0.5微米RMS。该系统由一个电动主磨头、一个可安装抛光臂和两个独立的晶片安装级组成，这两个级可以使晶片的双面抛光达到12英寸。MPS 2R300为抛光速度、加速度和角度提供半定制可调设置，允许生产高品质的成品。G&N MPS 2-R300的电动磨头由耐用铝制成,工作速度高达8,000 RPM。这使得晶片的快速研磨和研磨能够提供所需的表面完美。抛光臂采用经过校准的配重单元，以确保臂得到最佳平衡，以减少振动并产生均匀的光洁度。晶圆安装级采用灵活的设计，以适应广泛的应用，兼容的光束加载方法有助于进一步减少工艺时间，提高精度。内置软件包括最新的控制和维护功能,以及易于操作的用户友好图形用户界面。总体而言，G&N MPS 2R300是一种先进的晶片研磨、研磨和抛光机，能够快速、准确地生产高质量、均匀的抛光晶片。此工具是寻找可靠高效晶圆抛光解决方桉的研究和生产环境的理想选择。