二手 G&N MPS 2 R300 #9229189 待售

G&N MPS 2 R 300晶圆研磨、研磨和抛光设备是一种全自动工具，用于处理各种基材。它旨在实现尽可能低的表面粗糙度和均匀性。该系统自给自足，具有自动磨磨-抛光-清洁-后调节循环，可快速产生高质量、低缺陷的表面。该机器包括一个集成的虚拟晶片加载单元，允许同时快速加载和卸载多个晶片。虚拟晶片装载机在加工形状和尺寸复杂的生产批次时特别有用。机器根据晶片的大小和形状自动调整进料速度和砂轮压力。G&N MPS2-R300还包括一个板载高精度车削平台，用于在研磨前精确旋转和定位晶片。一个高效真空卡盘的高效研磨完成了工具.MPS 2R300的研磨部分使用两个独立的金刚石研磨段，一个是静态的，一个是移动的。这允许通过伺服反馈控制来调整膝盖尺寸。研磨和研磨过程中,研磨段对表面施加精确压力。一个特殊的泵资产过滤空气，保持移动和静态研磨段之间的间隙始终在精确规格。MPS 2-R300抛光部分采用固定的多层抛光模型进行有效而均匀的抛光。基板支撑在毛毡垫上，而抛光则由受控的CDA-CNC抛光轮完成。抛光轮经过回火处理,可提供最佳的平整度和表面精度.G&N MPS 2-R300还包括用于最终处理的综合后调节周期。该循环设计为提供最高精度的平坦度。通过将晶片基板自动返回到其原始位置来完成循环，并测量每个晶片的质量。G&N MPS 2R300晶片研磨、研磨和抛光设备为加工高精度晶片和基材提供了一个完整而高效的解决方桉。适用于大批量生产，表面精度和质量均优越。