二手 G&N MPS 3-134 #9148732 待售

G&N MPS 3-134晶片研磨、研磨和抛光设备设计用于提供半导体晶片的精确、可重复的平面研磨、研磨和抛光。该系统可以研磨,膝盖和抛光各种晶圆尺寸,形状和材料.它将处理的晶圆尺寸范围是直径从58.75到137.16mm。3-134提供变速主驱动电机，范围从10到30RPM。这允许用户选择适合其要求的研磨速度。压板或磨盘具有可变压力弹簧单元，使操作员能够调节磨削力。这样可以确保一致的表面光洁度和均匀的厚度。研磨参数在研磨站内均可调节。研磨头配有变速电动机，以可调节的速率旋转研磨板。提供磨料的液体浆料通过精密喷雾歧管进料，确保磨料在整个研磨过程中均匀分布。另外,预制机构可减少研磨板上的磨损。抛光站设有变速电动机，以可调节的速率固定抛光板。头部由气动机构加压，用来施加抛光力。抛光站有助于抛光磨削和研磨过程中的划痕和残留表面缺陷。为了简单一致的操作，机器配备了可编程逻辑控制器（PLC）和两个触摸屏控件，允许用户将参数保存到控制器内存中进行可重复的进程。为了确保晶片表面光洁度的最高质量,控制工具还连接到数字表面分析仪,该分析仪提供了对表面特性的实时分析。MPS 3-134提供了一个完整的研磨、研磨和抛光资产，以高效的生产运行。它既适用于高压应用，也适用于低压应用，可以加工厚度达15毫米的晶片。通过精确控制,它产生了一致的结果,并消除了耗时的试错过程。