二手 G&N MPS-R400 D #293636602 待售

G&N MPS-R400 D是为生产和研究部门设计的高度先进、最先进的晶圆研磨、研磨和抛光设备。它能够处理直径达200毫米的晶片，有多达十个用于研究应用的工艺样品。MPS-R400 D配备了业界领先的超精密晶圆研磨主轴,能够以0-8,000rpm的转速运行。该电机采用直接电动调节系统，允许用户快速、准确地设置研磨参数，如进料速率和深度。G&N MPS-R400 D还配备了真空致动夹紧和同步步进电动旋转，确保了每个通道的精度和可重复性。此外，MPS-R400 D还配备了Diamond研磨板。该板由一个由强烈压裂金刚石涂层材料制成的旋转圆盘组成，既能产生高精度表面光洁度，又能产生极低的Ra值。伴随着它的伺服电机，用户可以精确控制样品速度，允许各种抛光效果。最后，MPS-R400还配备了一个Nanoflush Headed抛光装置。这台机器是一个两步过程，由一个磨料纳米摩擦波兰式过程，然后是一个Nanoflush抛光步骤。纳米晶片工艺是一种高效且可重复的方法，能够达到极高的表面质量水平，对晶片的应力最小。总之，G&N MPS-R400 D是一种非常先进和可靠的晶圆研磨、研磨和抛光工具，设计用于生产和研究。MPS-R400 D具有多种驱动和伺服系统、金刚石研磨盘和纳米金属抛光资产，是当今最详细可靠的晶圆研磨系统之一。