二手 G&N V400 #9208430 待售
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ID: 9208430
Ceramic wafer grinding machine
With its polymer concrete casting for better vibration absorption
Improve structural integrity
Rigidity & stiffness to grind advanced materials
Technical data:
Motor: 4 kW
Spindle speed: 1450 RPM
Total connected load: 8 kW
Chucks: 28x2” 16x3” 12x4” - 9x5” 6x6” 3x8” 1x12”
Rotary tabl: 520 mm
Rotary table speed: 1 - 30 rpm
Cup grinding wheel:
Vitrified: 250 x 40 x 76
Diamond / CBN: 250 x 40 x 76
Z-Axis & rotary table motion: PMAC-Lite (4 Axes) Control
Compressed air: 60 - 90 PSI
Fine down feed:
Range: 200 mm
Step: 1 µm
Machine control:
Retrieve data and communicate directly with program 15" TFT touch screen & industrial computer support
Dual spindle machine for fast stock removal & ultra-fine surface finish
Coolant treatment:
Closed-loop chiller controls grinding coolant temperature & coolant
Integrated filter system separates Ga As & other material particles for disposal & reclaiming
Power supply: 220/380/440 V, 60 Hz.
G&N V400晶片研磨、研磨和抛光设备是一种强大而高效的机器,设计用于直径8英寸的硅片的湿磨和干磨、研磨和抛光。该系统由一个封闭式不锈钢研磨罐组成，具有集成的循环过滤系统，垂直电机驱动的底板，上部抛光板，全部与计算机控制的主控制器相连。该单元使用独特的3轴运动机运行，该机由一个垂直方向的电机驱动的底板进行旋转和倾斜调节，以及一个上部抛光板，提供精确的横向和径向运动。该运动工具提供了高度精确的研磨和抛光结果。抛光板装有精密空气轴承，用于晶圆的垂直旋转。晶圆研磨过程通过专用控制单元进行控制，用户可以调节研磨速度、压力、时间和研磨石材或垫片的形状等参数。该资产还配备了高精度触摸探头，以确保在研磨过程中可以进行精确的表面粗糙度测量。该型号可进一步配备一系列旨在提高生产率的配件。一个旋转炮塔式的起重设备，它提供了快速和容易的加载和卸载晶片到研磨罐。真空夹具系统也可用于晶圆的完美对准.V400晶片研磨、研磨和抛光装置是一种高效、精密的生产机器，适用于各种薄膜和晶片的应用。精细的控制和方便的装卸能力使该工具非常适合批量处理,提供卓越的质量和生产率。
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