二手 G&P TECHNOLOGY Poli-400L #9067708 待售

G&P TECHNOLOGY Poli-400L晶圆研磨、研磨和抛光系统是一种专为加工半导体晶圆而设计的极细公差的多功能一体机器。通过集成所有的研磨、研磨和抛光元件,Poli-400L为各种应用程序中的晶片处理提供了卓越的效果。适用于处理任何尺寸的晶圆，从4英寸到300毫米。G&P TECHNOLOGY Poli-400L设计用于同时研磨、研磨和抛光两个直径相同的晶片。它有两个独立的主轴电机为每个研磨，研磨和抛光过程。马达设计为提供均匀的速度和功率，使过程始终一致。纺锤是可调的，以确保根据晶圆的大小被处理的最佳结果。该机还配备了真空吸尘能力，以避免潜在的污染。它具有高达-80 kPa的可调真空压力范围，以及一个可选的水雾系统，以防止灰尘颗粒积聚。在研磨方面，Poli-400L既提供研磨板，也提供研磨磨料。它配有一系列研磨磨料，包括金刚石、碳化硅、氧化铝等材料。磨盘具有多种形状和尺寸，以达到所需的表面粗糙度和平坦度。对于研磨,G&P TECHNOLOGY Poli-400L的研磨板转速高达6000rpm,可提供卓越的效果。它的研磨板可以具有多种形状和尺寸，以达到最大的效率，并且可以用于尺寸达到300 mm的晶片。抛光是使用直接送入抛光室的抛光垫和浆料进行的。抛光室的设计是为了有效地捕获泥浆和创造一个均匀，均匀的表面光洁度。浆料是含金刚石或氧化铝磨料颗粒的水性磨料溶液，取决于晶圆的大小。该机还具有直观的触摸屏显示屏,便于访问所有抛光参数。这包括研磨速度、研磨角度和力、研磨压力、旋转速度和角度，以及调整和记录所有抛光参数的能力。Poli-400L经过专门设计，可在晶圆的研磨、研磨和抛光方面提供优异的效果。它提供均匀的动力、可调的纺锤、真空吸尘、可调的研磨和研磨板，以及抛光垫和浆料，以最大限度地提高效率。这台机器是任何寻求优越晶圆处理效果的人的完美解决方桉。