二手 G&P TECHNOLOGY Poli-762 #9067711 待售

G&P TECHNOLOGY Poli-762
ID: 9067711
CMP Tool Includes membrane carrier.
G&P TECHNOLOGY Poli-762抛光设备是一种通用、自动化的机器,设计用于高精度IC和MEMS材料的精磨、研磨和抛光。Poli-762能够在各种尺寸和厚度的晶片上保持极高的精确度。G&P TECHNOLOGY Poli-762采用两级直接驱动系统,可提供无与伦比的精确度和可重复性,能够产生精加工和抛光至最精细的细节。该机器提供超精细的细腻均匀的表面光洁度,用低磨损研磨纸和抛光膏轻轻研磨材料,在任何类型的基材上提供高度抛光的表面。Poli-762可以使用所需的配置进行自定义设置,以实现最精确的精加工属性。其可调真空系统和定心装置配有一个强大的单元集成全可编程逻辑控制器(PLC),控制所有机器功能,确保均匀一致的完成。PLC还使该工具能够在完全自主、半自主和手动操作模式下运行,从而提高控制和准确性。G&P TECHNOLOGY Poli-762采用了一种紧凑的设计,它需要最小的维护和设置,并具有优化的气流资产,以增加对空气中颗粒的保护,为生产高精度IC和MEMS组件提供了理想的环境。最终的结果是在这些材料上具有优越、一致的光洁度和光滑的表面。通过将先进的PLC控制模型、多加工轴和高效运动相结合,Poli-762能够提供更高的性能、简化的设置和操作安全性,使其成为现代IC和MEMS制造中理想的晶圆研磨、研磨和抛光解决方桉。
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