二手 GMN MPS 2 R300 #9162225 待售

GMN MPS 2 R300是用于半导体工业应用的晶圆研磨、研磨和抛光设备。该系统提供出色的表面精加工和晶圆边缘的高精度研磨。该单元包括一台机器人机器，用于将晶片精确定位在研磨台上，以便进行安全准确的研磨。该工具还具有真空床，将晶片牢固地固定在适当的位置，可用于研磨、研磨和抛光大型晶片。资产有两个磨头，每个磨头由一个强大的电机驱动，每个磁头可提供高达500 W的功率。这使得用户可以同时快速地研磨和敲打多个晶片。该型号配备了可调气动挡块，使磨盘停止在所需的确切位置。磨头具有高精度的金刚石磨盘，用户可以在晶圆边缘进行精密磨削。磨头还具有集成压缩空气冷却功能,可实现最佳磨削性能.设备包括用于单面和双面研磨操作的研磨台。该表配备了高精度的研磨机构，并且是可调的，允许用户调整圈角和速度以适应应用。该系统还配备了抛光器，用于抛光晶片边缘。抛光器的设计实现了高水平的抛光，以去除任何粗糙和改善最终的边缘轮廓。该装置能够研磨、研磨和抛光直径达300毫米的晶片。机器还配备了高分辨率光学显微镜，允许用户在最终处理前检查晶圆表面。这允许用户在进入下一阶段之前识别任何表面缺陷。MPS 2 R300是一种可靠高效的工具，可用于各种晶圆研磨、研磨和抛光应用。该资产具有高精度和高速度,非常适合任何半导体制造过程。该模型易于使用，可以快速配置，以适应用户的需求。