二手 HARIG 612 #9390527 待售

製造商
HARIG
模型
612
ID: 9390527
优质的: 1998
Surface grinder Chuck size: 6" x 12" Longitudinal travel: 12 - 3/4" Cross travel: 6 - 3/4" Grinding wheel diameter: 8" (Maximum) Wheel width: 1/2" Hole size: 1-1/4" Vertical working height: 12" (Maximum) Handwheel graduations: 0.0005" Downfeed: 0.0001" Cross: 0.001" Spindle power: 1.5 HP Fine down feed handwheel WALKER CERMAX Perm-mag chuck Auto-lubrication E-Stop Adjustable work light Wheel puller Manuals 1998 vintage.
HARIG 612是一种晶圆研磨、研磨和抛光设备,设计用于表面平整度、厚度变化和表面、角质和边缘质量抛光。它是一种专为半导体工业生产精密成品晶片而设计的多合一晶片成品系统。612单元包括两个主要组件:一个精密晶圆磨床和一个旋转抛光臂附件。晶圆研磨机由一个电动主轴底座和一个直径12英寸的压板组成,由连接数字控制机的重型精密主轴电机驱动。压板的表面是可调节的过程控制,它的多层滤纸防止颗粒污染周围的环境。研磨机还有一个内置的空气过滤器和排气风扇,用于排出研磨过程产生的任何加热空气。旋转抛光臂是用精密光学器件来控制晶圆的深度,它包括一个防静电表盘来调节抛光速度。手臂带有600粒金刚石轮,用于研磨和研磨,旋转速度高达300 rpm。金刚石轮密封,防止灰尘进入研磨室。手臂还装有真空吸去晶片表面的磨料颗粒,以及一个发光二极管来检查晶片的厚度和表面图样。一旦达到薄而均匀的研磨和研磨层,晶圆就可以抛光了。HARIG 612使用了一种软抛光工具,使用压缩空气、胶体二氧化硅和去离子水的组合来达到精确的光洁度。软抛光资产采用低压空气、胶体二氧化硅和去离子水的组合,抛光大而难以到达表面。内置的空气过滤器和排气模型还有助于通过排出抛光过程产生的任何加热空气来保护环境。最后,通过在机器上增加一个旋转涂层,可以进一步改进抛光工艺。自旋涂层提供晶圆上抛光材料的均匀覆盖,允许增加一致性和抛光均匀性。612设备提供了一种快速、可靠和一致的方式来完成晶圆并保证一流的质量控制。该机用途广泛,用户友好,操作方便,同时为无尘埃、无颗粒的工作环境提供高水平的清洁。
还没有评论