二手IPEC PLANAR(晶圆研磨、抛光)待售

IPEC PLANAR是晶圆研磨、研磨和抛光设备的领先制造商,在半导体基板加工中提供高精度和高效率。他们的系统以其先进的技术、创新的设计和卓越的性能而闻名。IPEC PLANAR的晶圆研磨单元采用两步工艺，包括粗磨和精磨。这确保了晶圆表面材料的精确去除，从而产生优秀的平坦性和表面质量。这些机器配备了最先进的研磨工具和先进的控制工具，允许最佳的过程控制和可重复性。IPEC PLANAR的研磨资产是为晶圆的超光滑表面精加工而设计的。这些模型采用磨料浆料、研磨板和受控压力的组合，以去除表面粗糙度并达到所需的平坦度。IPEC PLANAR的研磨设备以其高生产率、卓越的表面质量和低拥有成本而着称。IPEC PLANAR的抛光系统采用化学机械抛光（CMP）工艺在晶圆上实现超平坦和镜面。这些单元结合了精密控制的抛光垫、浆料和调理工具，以受控的速度去除材料，达到所需的表面光洁度。IPEC PLANAR的抛光机广泛应用于半导体工业中，用于平面化、薄膜去除、氧化物抛光等应用。IPEC PLANAR晶圆研磨系统的一个实例是372M-44113-1。该系统专为大批量生产而设计,为各种晶圆尺寸和材料提供先进的研磨能力。它配备了先进的控制功能，如原位厚度测量和精密研磨力控制，以确保高工艺精度和可靠性。总体而言,IPEC PLANAR的晶圆研磨、研磨和抛光工具为半导体制造商提供了先进的工艺解决方桉,可提供卓越的效果、更高的生产效率和成本效益。