二手 LAPMASTER 36E #293778393 待售
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ID: 293778393
优质的: 1984
Lapping system
(3) Ring style open face machine
Lapping plate speed: 70 RPM
Table size: 74” x 74”
Equipped with:
(3) Cast iron conditioning rings
(3) Adjustable ring roller guides (Yokes)
5 HP Main drive motor and electrical control
Slurry pump
Tank
Overhead distributor
Nordic ES-3 soft start control for lap plate
Automatic cycle timer control
Heavy-duty outside parts handling table
Push-button control station
Power supply: 60 Hz, 3 Phase, 230 V
1984 vintage.
LAPMASTER 36E是一种高度先进和精密工程的设备,设计用于各种材料的晶圆研磨、研磨和抛光,主要集中在硅、砷和的半导体基板上。该系统是专门为满足半导体工业的严格要求而量身定制的,在半导体工业中,超精确和均匀的表面光洁度对于电子器件的性能和可靠性至关重要。36E单元的核心是其创新和坚固的设计,其特点是一个双驱动机器,允许独立控制工作载体和调节环。这种独特的设置增强了处理不同材料的灵活性和多功能性,并在研磨、研磨和抛光阶段实现了对压力、速度和振荡频率等参数的精确控制。LAPMASTER 36E工具的主要部件包括高精度工作载体、固定磨料板、调理环组件和浆料输送资产。该工作载体设计用于在加工步骤中牢固地固定基板,并确保晶圆与磨料表面的均匀接触。固定磨料板配有战略分布式的磨料颗粒,以高效一致的方式方便物料去除过程。调理环组件由多个调理环组成,用于在研磨和抛光阶段维持基板表面的平整度和平行性。这些环可以独立调整,以适应不同的材料性能和加工要求,确保在表面光洁度和平整均匀性方面的最佳结果。浆料输送模型在向加工区域供应磨料浆料方面起着至关重要的作用,确保在研磨和抛光操作过程中基材的恒定润滑和冷却。该设备配有精密泵、过滤器和流量控制机构,以维持所需的浆液浓度和流量,从而优化材料去除速率,最大限度地减少基板表面的缺陷。除了其先进的硬件组件外,36E系统还配备了一个精密的控制单元,可以对关键流程参数进行实时监控和调整。操作员可以轻松设置处理配方、监控过程变量和分析数据,以确保跨多个批次基板的结果一致且可重现。总体而言,LAPMASTER 36E机代表了晶圆研磨、研磨和抛光应用在半导体行业的最先进的解决方桉。凭借其精确的控制、先进的功能和用户友好的界面,这一工具使半导体制造商在晶圆加工操作中实现了高质量的表面饰面、卓越的平坦度控制以及更高的生产率。
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