二手 SEIKO OFL 12 #127981 待售

SEIKO OFL 12是一种晶圆研磨、研磨、抛光设备，用于半导体、光学和其他表面制备应用。高效的系统允许用户在晶圆和组件上实现精确的镜像饰面。SEIKO OFNL 12由研磨站、抛光站、研磨站组成。研磨站采用专门的金刚石车轮，精确研磨晶圆表面纹理，达到传统研磨技术无法达到的效果。抛光站设计用于在晶圆表面上产生高质量的镜面光洁度。抛光站利用专利单元对抛光工艺中使用的参数进行精确控制。最后，研磨站允许晶片表面的精加工和研磨通过旋转平面研磨板对晶片的表面。该站采用的研磨技术能够产生非常光滑的表面，也对不规则形状提供了较小的修正。OFL 12具有独特的操作理念，允许用户快速、轻松地更改抛光参数，如速度、压力、力和抛光时间。机器还配备了若干诊断功能，使用户能够监控研磨和抛光过程的状况。此外，SEIKO OFL 12还有一个安全工具，可以防止车轮在运行过程中过热，这一特点在大批量生产环境中特别有益。OFL 12为用户提供了晶圆研磨、研磨和抛光过程中的高度精度和可重复性。适用于电子、光学、生命科学领域的各种应用。此外，该资产被设计为易于与其他设备集成，如数控机床，使其用途广泛，适合广泛的生产过程中使用。