二手 STRASBAUGH 7AA #9124369 待售

ID: 9124369
晶圆大小: 6"
Wafer grinders Fully automated Capable of handling 75mm to 150mm wafers Capable of both single and two step grinding processes.
STRASBAUGH 7AA是为各种半导体、MEMS、光电及相关器件的最佳表面光洁度而设计的精密晶圆研磨、研磨和抛光设备。它有多种配置,可根据特定的流程要求而有所不同。系统从一个晶圆架开始,该晶圆架最多可容纳八个晶圆,直径从100毫米到300毫米不等。它有一个符合人体工程学设计的操作员界面,提供运行多个进程序列的能力。晶片支架配有一个专利的"浮动"晶片安装单元,可在堆栈中的所有晶片上提供稳定、可重复的结果。为了最大限度地提高生产吞吐量和工艺保真度,STRASBAUGH 7 AA采用了研磨和研磨操作的组合。磨削过程通过机器的两个晶圆旋转轴完成,使得三个同时操作。顶侧旋转金刚石圆盘将晶片的表面磨削成所需的形状。第二个旋转轴配置为真空升降机,从支架中取回晶片,并将其通过一系列直列研磨站移动。当晶片通过每个工作站时,将更改设置以满足特定的晶片要求。对于研磨过程,7AA使用单面压板设备。该装置可根据需要容纳金刚石化合物、碳化硼、玻璃珠、碳化硅等研磨材料。压板装置包括一组可调节的滚筒,以提供晶圆与研磨板之间的最佳接触压力。经过研磨和研磨操作,7 AA的抛光活动是通过使用三进位抛光工具或机械臂安装抛光垫来实现的。抛光资产是一种紧凑的机械臂模型,设计用于各种抛光操作,如平面化、斜角化、倒角化、交叉舱口化等。三分压垫是为微微抛光和宏观抛光活动而设计的,并以专利的防滑材料为特色,使垫在抛光活动中保持与晶圆的接触。STRASBAUGH 7AA也设计用于低维护操作。半透明的盖子可以保护设备免受外部环境条件的影响,并最大限度地减少灰尘污染。内置的微处理器可以编程为执行预定的过程,从而无需手动操作并确保跨多个产品的可重复性。STRASBAUGH 7 AA还具有一系列可选的附件,例如用于后处理冲洗和DI水的蠕动泵,或用于包含过程的HEPA过滤器。
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