二手 SUMITOMO 08E503 #293616746 待售

SUMITOMO 08E503
ID: 293616746
优质的: 2009
Single side CMP system 2009 vintage.
SUMITOMO 08E503是一种用于半导体生产的晶圆研磨、研磨和抛光设备。该系统适用于单面和双面研磨,能够产生高质量、低粗糙度的光洁度,具有极好的均匀性和最小的颤音。该装置采用了最新的研磨技术,包括动态平衡的研磨主轴、可变高压水喷嘴和强大的真空系统,具有优异的研磨性能。此外,08E503通过全自动加载和卸载提供了高吞吐量功能。SUMITOMO 08E503机非常适合用于许多不同的半导体生产过程,包括:晶圆研磨、研磨和抛光。该工具采用多种方法来达到适合先进集成电路使用的精加工质量水平。对于晶圆研磨,资产能够处理高达6英寸的晶圆,最大载重力约为100公斤。研磨主轴由高速直驱马达驱动,允许使用者选择最高300°/秒的研磨速度。强大的真空模型确保了适用于单面和双面磨削的高静止持力。对于研磨,08E503使用多种精密加工方法,包括垂直研磨、即时研磨和单位置研磨。该设备具有用于均匀研磨流体的可变压力喷嘴,可产生高达0.001 µm Ra的光洁度。可变喷嘴还用于研磨完成时将晶片从研磨表面提起。SUMITOMO 08E503还包括一个自动抛光系统,该系统能够应用各种抛光化合物,这取决于所需的光洁度。该装置装有全自动抛光头,每个循环最多可处理10个晶圆。精密的抛光头能够达到高达0.05 µm Ra的镜面光洁度,是高精度半导体生产的理想选择。综上所述,08E503是一种多用途、可靠的晶圆研磨、研磨和抛光机,能够产生高质量、低粗糙度的光洁度。该工具具有各种强大和先进的功能,非常适合半导体行业使用。
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