二手晶圆 & 光罩清洗机待售
晶圆和掩模洗涤器是半导体制造过程中使用的关键设备。这台机器负责清洗和制备晶片和掩模，然后再用于集成电路的生产。洗涤器利用机械、化学和超声波工艺的组合来清除晶片和面罩表面的污染物。这是一个多步骤的过程，确保了材料的清洁度和完整性。首先，将晶片和口罩装入洗涤器室内，在那里进行高压除离子水喷雾。这种水可以去除表面可能存在的任何松散颗粒。接下来，洗涤器采用化学物质和超声波振动的组合来清除任何顽固或粘附的污染物。这一过程中使用的化学物质是专门配制出来溶解晶片和口罩上可以发现的不同类型的污染物，如光致抗蚀剂、有机薄膜和金属杂质。超声波振动会产生高频波，搅动晶片和掩模的表面，有助于清除残留的颗粒，从而增强清洁过程。清洗后，用去离子水彻底冲洗晶片和口罩，确保清除残留的化学物质。在这一步骤中特别注意防止引入任何新的污染物。总体而言，晶圆和掩模洗涤器通过确保生产过程中使用的材料的清洁度和完整性，在半导体制造中起着至关重要的作用。不断改进洗涤器技术，对于满足半导体行业的严格要求，提升集成电路的能力至关重要。
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