二手 ASML PAS 2500 / 40 #138919 待售
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ID: 138919
晶圆大小: 5"
Stepper, 5"
Operator training: No
PEP 2 (Color graphics): Yes
PEP 1/3/4: No
SECS (I/II): No
SECS Job creator: No
Single reticle SMIF: No
Matching manager: No
Extended file system (MEP): No
Focus enhancement package: No
Line scan: No
Dose control: No
Reticle error correction: No
Throughput enhancement: No
Batch status light: No
Reticle carrier identification: No
Extended power supply: No
88 um error detection: No
RICO Verification: No
Chuck spot detection: No
Wafer track interface: Yes
Wafer tilt monitor: Yes
Mechanical / electrical / options:
Interface: SVG 88
Stamp drive type: Non
Stamp foot type: Clean
Stamp POU filter: Yes
Cyber: SSSD
Air shower (OEPS): No
P-Chuck: MIII
P-Chuck top flat finder: No
Microscope: Adjustable
Lamp HG: 450W
Alignment PCBD: 4022.430.00900
Analog PCBD in VME: MIOS1
HDD: Solid state
TCU: No
HCU: No
Ionizer: No
Box 1: FESTO
Box 2: FESTO
Box 3: FESTO
Box 4: FESTO
Box 5: FESTO
Software: 8.1.0
Optical performance:
Uniformity: 2.5
Matching X magnification: 168
Matching Y magnification: 176
UDOF @ 0.7 micron status Q4-2008: 2.4
Astigmatism noticed: No
Focus stability: Yes
Currently de-installed.
ASML PAS 2500/40是为高精度光刻应用而设计的高端晶圆步进器。该设备能够生产精密最小线宽为0.35微米的集成电路制造光掩模。它还提供高吞吐量,最大字段大小可达254 mm。该系统由两轴机械级驱动,使16"或24"晶圆的运动高度精确。它具有获得专利的焦点控制单元,可在整个查看区域中准确地保持统一的焦点和字段大小。该机还具有真空投影工具,可提高分辨率,减少图像像差。该资产的光是使用氟化KrF准分子激光源产生的。激光源能够产生248nm的波长,脉冲重复频率高达60Hz,能量输出高达100mJ/pulse。这使模型能够准确、精确地暴露最小的阵列,而不会损坏它们。该设备还提供适合敏感应用的低工作温度和高热稳定性。其真空投射室可确保高温稳定性,将晶圆温度保持在0.3 °C ±。为了用户控制和校准,系统提供了基于Web的计算机用户界面。这允许用户轻松输入设计数据,调整模式布局,调整设置,下载数据,检查设备状态。它还包括视图控制、晶圆映射、斑点控制等多种远程操作功能。最后,ASML PAS 2500/40能够产生最小线宽为0.35微米、最大场尺寸为254毫米的IC和确保高温稳定性的真空投影机。其KrF准分子激光器提供248nm的波长和高达100mJ/pulse的高能量输出,确保高精度曝光而不会损坏图样。该工具还提供了基于Web的计算机用户界面,便于操作和远程控制多个参数。PAS 2500/40是高精度光刻应用的理想选择。
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