二手 ASML PAS 2500 / 40 #9245669 待售

ASML PAS 2500/40是一种先进的晶片步进器设备，用于光刻工艺，如用于微芯片和晶片制造的光掩模生成。该装置是一种步进重复系统，可提供纳米级的曝光精度和均匀的曝光覆盖范围。该装置设计用于快速、精确的光掩模制造和光刻工艺。它可以处理355mm x 455mm的最大基板尺寸，目前的最大覆盖精度为0.5um。ASML PAS 2500/40配备了氨监控器，用于连续实时监测工艺气体条件，以优化晶圆生产。该平台包括高速伺服执行器、12英寸纳米精度级、最先进的照明机等多项先进功能。照明工具由安装在高精度线性级上的半导体激光器组成，可针对均匀、高分辨率和锐利的图像进行精确调整。PAS 2500/40旨在与多种类型的光掩模和晶片配合使用，包括标准的6英寸和8英寸晶片、最多5层的2D和3D晶片，以及薄硅晶片。该设备可以与广泛的输入、过程和输出光学器件结合使用，包括ArF、KrF和I-Line。PAS 2500/40集成了许多复杂的机器人技术和自动化功能,可帮助提高流程产量并减少转换和停机时间。这些包括自动卡带卸载、定位和加载、自动快门控制。还提供了特定于流程的软件控制。ASML PAS 2500/40能够在大批量生产环境中处理多个晶圆和光掩码。通过提供一个坚固可靠的光刻平台，资产有助于确保晶圆质量的最高水平和产量为各种晶圆制造和光刻应用。