二手 ASML PAS 2500 / 40 #9275932 待售

ASML PAS 2500/40是为满足半导体制造的先进光刻需求而设计的深层紫外线投影光刻设备。它结合了先进的深层紫外线投影光学器件、图桉生成和对准系统，以及一个基台，以确保光刻工艺的精确度和准确性。先进的深层紫外线投影光学系统基于晶格和单色仪设计，能够提供从10：1到1000：1的各种图像格式、分辨率和放大倍数。光学器件提供了5nm的半场对比度,使设备能够满足当前大多数光刻需求和工艺要求。机器的模式生成和对准系统融合了多种模式来源，如精密掩模、装有光刻胶的枪管和数字微镜设备（DMD）。它们提供了广泛的模式类型和可重复性，以及准确性和稳定性。此外,ASML PAS 2500/40还提供了8nm半场对比度范围内图像模式所需的精度。该工具还拥有一个精密的基板级，它配备了伺服控制器，以实现更高的精度和可重复性与尽可能最低的抖动误差。它提供快速、准确和可重复的x、y、θ基板运动，同时保持最佳精度和性能。PAS 2500/40还支持多种高级应用，如双阵列和缺陷检测，以及工艺鉴定测试。此外，其用户友好的界面以及专用的控制和计量包提供了丰富的功能，以便利实施甚至最先进的光刻工艺。总体而言,PAS 2500/40是一种先进的深层紫外线晶片步进器,可为半导体制造中的各种应用提供高度精确的性能。它结合了广泛的特性和功能，从先进的深层紫外线投影光学资产、模式生成和对准系统，到其先进的基板级和用户友好界面，确保最复杂的光刻任务能够快速高效地完成。