二手 ASML PAS 2500 / 40 #9277550 待售
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![ASML PAS 2500 / 40 图为 已使用的 ASML PAS 2500 / 40 待售](https://cdn.caeonline.com/images/asml_pas-2500-40_1242025.jpg)
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已售出
ID: 9277550
晶圆大小: 6"
Wafer stepper, 6"
Reticle masking:
(4) Independent blades
Full field of travel
Alignment system:
Dual automatic through-the-lens
Diffraction grating marks
Reticle alignment system
Illumination system:
Elliptical mirror
Fly's eye integrator
Position control:
Three-axis HP laser interferometer system
1988 vintage.
ASML PAS 2500/40是一种先进的半导体光刻工具,非常适合大批量制造和大晶圆加工。它利用先进的扫描技术,包括并行扫描和固定掩模延迟扫描,以确保精确和一致的打印,且边缘失真最小。2500/40的核心是一个先进的相干成像设备,具有13.3英寸的方形视野。该成像系统包含两个线性偏振角度、四个扫描模式和一个用于增强分辨率的象限分割模式。此成像单元可提供两微米的最大分辨率-非常适合大型模具。ASML PAS 2500/40每6英寸晶圆最多可产生12个检测点,每秒最多可产生10个点。它还具有自动扫描选项,用于扫描多个视图和晶圆字段。这保证了高容量晶片的准确检测和印迹。与早期型号相比,2500/40提供了更好的景深和最快4倍的曝光时间。步进器配有增强电源,提供稳定准确的曝光剂量。两个先进的样本跟踪系统可实现精确的样本对齐,减少未打印和提高总体产量。此外,2500/40还可以与先进的控制软件集成,以便于机器管理和处理。在集成维护方面,PAS 2500/40相当人性化。步进器具有一个模块工具,可以方便地访问部件和组件。整个资产只需12分钟即可设置、校准和操作。一整套诊断程序可确保性能稳定性和输出可靠性。总而言之,PAS 2500/40是一款高性能、高体积的光刻步进器,专为工业制造作业而设计。它配备了广泛的先进技术,如高分辨率成像模型、自动化的样本跟踪系统和先进的电源。2500/40采用直观的控制软件,安装方便快捷,是满足任何大规模光刻需求的理想解决方桉。
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