二手 ASML PAS 2500 / 40 #9285750 待售
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已售出
ID: 9285750
晶圆大小: 3"
Wafer stepper, 3"
Resolution, 0.7 µm
Reticle handling PCB
Stamp up / Down
Focus laser drive
Diode control
P-Chuck pre amplifier
Blades control
Blades DR
Motor relay
Relay card
Voltage current
Interference filter
Focus servo
Reticle table table control
Timing control card
Hinds modulator
Alignment counter
Alignment Mux + Dem
Velocity card
Bar code reader
Commutator
Charge amplifier
Wafer handling
Cyber termination
Floppy termination
2500x Table control
PAS 2500T Table control
Mains switch relay card
Pin spot sensor
Wafer quality and ambient
Signal conditioning board RMS
WH Pre amplifier HTW
HV Cable with ferrite Ring
Cables / Sensors
CYBEC Transmitter, 4"
CYBEC Receiver, 4"
Hard Disk Drive (HDD)
(3) P Chuck motors
Motor realignment unit (X/Theta Reticle handling)
Boards missing.
ASML PAS 2500/40是一台193纳米二元步进扫描光刻机，广泛用于制造用于生产计算机芯片和其他电子元件的晶片。ASML PAS 2500/40能够在尺寸从100毫米到200毫米的晶片上产生模式，最大模具尺寸为8 "x 10"。PAS 2500/40采用了可移动的光学设备,具有一对能够实现多变光学系统的六倍透镜。镜头提供高分辨率的成像和恒定的光学性能，使得该单元适合高速生产。Liquid Developers的使用使机器能够以非常低的能量曝光进行一系列曝光剂量的直接写入曝光。PAS 2500/40利用X射线源、激光源和步进控制晶片卡盘的组合。X射线源用于照射晶圆，而激光源则用于直接暴露于晶圆的剂量。步进控制的晶片卡盘允许晶片在曝光过程中移动，从而使曝光过程的各个步骤得以准确进行。ASML PAS 2500/40还具有AutoFocus和Autoalign等多项先进技术，允许以非常高的精度和均匀性进行自动成像和曝光。该工具还具有扫描焦平面切片资产,允许同时执行一系列晶圆曝光步骤。此外,ASML PAS 2500/40还具有软件控制的扫描过程,可将给定层的曝光次数降至最低。该机还配备了多种计量工具，可实现最佳的过程控制和优化。PAS 2500/40是一种极其可靠和通用的晶圆步进器,能够在要求最苛刻的光刻和测试应用中提供高精度、重复性和鲁棒性。
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