二手 ASML PAS 5000 / 50 #293620128 待售
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已售出
ID: 293620128
晶圆大小: 6"
优质的: 2005
Stepper, 6"
Chiller
Light source wavelength: 365 nm
Numerical aperture: 0.48
Resolution: 0.5 μm
Depth of focus: 1.2 μm
Maximum exposure area (X / Y): 16 mm / 20 mm
Exposure intensity: 553 mW/cm²
Uniformity of light intensity: 2.45%
Transfer rate: ≥120 mm/s
CD Uniformity (Max-Min): ≤0.10 µm
Stage flatness: -0.1 μm/cm
Engraving precision (X / Y): 88 nm / 62 nm
Engraving method
Mask plate size: 5009
Mask switching time: 32s (with alignment action)
Mask plate cassette: 2-SMIF box
(4) Wafer stages
Exposure platform
Electric cabinet
Transfer unit
PC
Power supply
Projection and expose lens
Focus system
Electronics cabinet:
Lamp power
VME
MIOS1
MIOS2
VRS
HP Rack
Control systems:
Valve
Sensor
Reducer
Wafer handling:
Send unit
Receive unit
per-alignment
levelling device
Dipod
Discharge
Reticle handling:
Library
Per-alignment
Barcode
UV Lighting system:
Lamp housing
Mirror
Lens
Filter
Shutter
Stage movement:
Stator
Linear motor
Laser interferometer and source
Alignment system
2005 vintage.
ASML PAS 5000/50是一种高度精确的自动化晶圆步进器,专为半导体生产中使用的先进光刻工艺而设计。它对电极凋刻过程的灵敏处理和高分辨率成像实现了复杂三维结构硅晶片上极其精确的微观图像。ASML PAS 5000/50具有4k先进的成像设备,可实现12纳米的精确分辨率。板载光学定位技术以纳米精度确定晶圆位置，每次都能获得准确的结果。它还具有一个综合的"实时特征"，可以测量不同深度的结构，从而减少光刻过程关键阶段的迭代次数。PAS 5000/50还具有较高的处理速度以实现高效运行。其先进的算法可以减少多达30%的处理时间，显着加快整个光刻过程。同时，它的设计是为了保证无论运行时都能保持恒定的精度。PAS 5000/50设计得极稳定，其空气振动抑制系统消除了空气流动噪音。另外，它的晶片传输装置被设计成能够轻柔地处理晶片，从而防止晶片内微妙的元件受到任何压力。最后，机器的用户友好控制程序被设计为允许操作员以最小的努力方便地控制设备。总之,ASML PAS 5000/50是一种高效、自动化的晶片步进器,具有先进的成像能力和精确的分辨率。它的高处理速度和稳定的设计允许快速、准确的结果与最小的努力。通过提供极其精确的光刻技术，这种装置非常适合现代半导体生产。
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