二手 ASML PAS 5000 / 50 #293749240 待售

ASML PAS 5000/50设备是一种先进的半导体生产光刻解决方桉。该系统提供无与伦比的性能和生产力,使其成为任何半导体制造商的关键设备。ASML PAS 5000/50使用晶圆步进器移动晶圆，并与光掩模精确对齐，让图样转移到晶圆上。晶圆步进器利用激光定位、双轴设计、线性电机和编码器以及运动控制CPU。口罩对齐器具有很宽的工作距离,可容纳6英寸（15厘米）的任何尺寸口罩。该单元可提供高达4nm的高分辨率,从而可以对小至45 nm的功能进行成像。掩模对准器也有150 mm x 150 mm的最大晶圆尺寸，可以处理一系列材料的晶圆，包括石英、硅和蓝宝石。PAS 5000/50提供了自动对准过程,该过程结合了物理感测和粘光感测,以确保掩模相对于晶片的精确放置。此外,对齐和扫描环确保在每次扫描之前始终对齐掩模和晶片。这使得机器能够达到高产生产所需的精度和重复性。在生产力方面，PAS 5000/50每小时最高可运行4000个晶圆，吞吐量高达每小时200个晶圆。该工具具有内置的保护功能,可防止晶片受到机械和热损坏,以及广泛的曝光时间和固化周期。ASML PAS 5000/50上的用户友好界面使控制和监视资产变得容易。模型的软件允许实时统计,包括晶圆吞吐量、对齐精度和吞吐量时间。此外,该软件还允许跨多个系统共享存储的数据,并提供高效的配方交换功能。总之，ASML PAS 5000/50由于其高性能和生产率，是半导体生产的绝佳解决方桉。其广泛的功能确保了设备可以处理复杂的任务，而其用户友好的界面则确保了它可以快速轻松地操作。