二手 ASML PAS 5000 / 50 #9241835 待售
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ID: 9241835
晶圆大小: 6"
Stepper, 6"
Illumination homogeneity:
15.0 x 15.0 mm (%): ≤ 3.0
9.4 x 19.0 mm (%): ≤ 3.0
Illumination intensity (mW/cm²): ≥ 245
Reticle masking (μm): ≤ 500
Lens distortion:
Non-correctable error (nm):
X 15 x 15: ≤ 120 nm
Y 15 x 15: ≤ 120 nm
Mag: <50 nm/cm
Die rotation: < 5 urad
Trapezoidal X: <50 nm/cm²
Trapezoidal Y: <50 nm/cm²
Pre-alignment accuracy (Optical sensor):
X m1 w1 (um): ≤ 7
Y m1 w1 (um): ≤ 7
Y m1 w2 (um): ≤ 7
Stage repeatability:
X [nm]: ≤ 100
Y [nm]: ≤ 100
Single machine overlay (99.7%)
X Max 99.7%: ≤ 150
Y Max 99.7%: ≤ 150
Wafer throughput:
Wafer throughput at 200 mJ/cm²: ≥ 47
Reticle exchange time (seconds): ≤ 40
UDOF: >1.2 um
Intra filed CD: ± 0.05 um @ 0.5 ± 0.025 um mean CD
Target CD reproducibility: 0.5 ± 0.05 um
Overlay:
Box in box: <150 nm
Overlay on product wafer: <150 nm
System stability:
Contamination
(3) Topside particles: 0.5um / Larger.
ASML PAS 5000/50晶圆步进器（Wafer Stepper）是一种用于半导体制造的领先工具。它在高通量生产环境中将高分辨率设备和组件打印到晶片上。具体来说，ASML PAS 5000/50是一种高度精确、具有深紫外线能力的步进和扫描光刻工具，大场尺寸为50毫米，设计用于200毫米或300毫米的大模具尺寸。它具有先进的制图技术、通过现场测量系统进行的迭加控制以及非接触式晶圆升降机，以实现流畅、精确的工作流程。PAS 5000/50步进器集成了多种工艺技术，如分段照明以获得更好的聚焦深度，改进成像和迭加精度的双光学系统，以及先进的光刻技术，如KrF准分子激光扫描光学以及基于运动镜的舞台控制系统。此外，步进器还配备了高精度真空控制系统，以精确控制光掩模对晶片的聚焦。PAS 5000/50具有生产0.15微米设备和组件的能力,具有高度可靠和可重复的特点,具有更高的吞吐量和控制能力。其封装自订选项，加上高品质的成像和列印能力，使其成为进阶光刻工艺的绝佳选择。此外,其低的健康维护要求、对各种生产负载的鲁棒性以及缩短的周期时间有助于其在各种半导体生产环境中的普及。ASML PAS 5000/50是先进、高性能光刻加工的理想选择。ASML PAS 5000/50的高精度、精确度和吞吐量,以及众多的工艺能力,使其成为任何半导体生产环境的绝佳工具。无论您的过程需要阵列或打印高分辨率设备,还是需要高效、准确的迭加控制,PAS 5000/50都不会令人失望。
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