二手 ASML PAS 5000 / 70 #293817880 待售
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ID: 293817880
Stepper
Numerical Aperture (NA): 0.42
Resolution: 450 nm
DCO: 125
Throughput (WPH): 30.
ASML PAS 5000/70是一种高性能晶圆步进器,广泛应用于半导体工业中,用于先进的光刻工艺。这种最先进的工具设计用于在半导体晶片上产生具有亚微米分辨率的高度精确的图样。PAS 5000/70是集成电路制造中的关键设备,因为它能够实现电子元件的小型化和芯片性能的提高。ASML PAS 5000/70的关键特性之一是其先进的光学设备,利用透镜、镜子和滤镜的组合,将图样投射到硅片上。步进器使用波长为248nm的深紫外线(DUV)光源实现高分辨率成像。对光学系统进行了仔细优化,以最大程度地减少像差和失真,确保在晶圆表面上精确地再现图样。PAS 5000/70还具有一个精密的阶段单元,可以在曝光过程中精确定位和对准晶圆。该级配备了多台高精度电机和传感器,使晶圆运动中的亚微米精度得以实现。这种控制水平对于实现紧密的覆盖和配位公差至关重要,这对于多层光刻工艺至关重要。ASML PAS 5000/70的另一个重要方面是其先进的软件控制机器,它提供了一个用户友好的界面,用于设置曝光参数、监控过程变量以及分析成像结果。软件包括用于优化曝光设置的复杂算法,如剂量、焦点和对齐方式,以实现所需的模式分辨率和保真度。此外,该工具可以执行自动晶片对准和聚焦校正,以补偿光刻过程中的任何误差和变化。在吞吐量方面,PAS 5000/70能够以高速串行模式或并行模式曝光多个晶片,具体取决于具体的工艺要求。步进器可以在保持整个晶片表面优越的模式均匀性的同时实现高生产力水平。步进器处理不同晶圆尺寸和类型的能力进一步提高了这一效率,使其成为各种半导体制造应用的通用工具。此外,ASML PAS 5000/70的设计满足了半导体行业严格的洁净室要求,采用了先进的污染控制措施,最大限度地减少了颗粒的产生,并确保了光刻过程中的高清洁度。该资产还配备了安全功能,以保护操作员,防止敏感部件受损。总体而言,PAS 5000/70是一种尖端的晶圆步进器,为先进的半导体制造工艺提供卓越的精度、可靠性和生产率。它结合了先进的光学、精确的舞台控制、智能软件和稳健的设计,使其成为实现高分辨率制图和保持芯片制造高产的不可或缺的工具。
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