二手 ASML PAS 5500 / 100C #293750016 待售

ASML PAS 5500/100 C是晶片步进器，一种精密对准和成像装置，用于在半导体晶片的製造中对硅晶片进行阵列对齐。它设计用于193nm浸入式DUV光刻工艺步骤。ASML PAS5500/100C具有一个大场大小为2,000 x 2,500 mm的舞台，并在整个场地上进行长距离高精度的舞台运动。它具有很高的可重复性,并且可以从单个曝光打印多达25个对齐层,其分辨率至少是以前系统的两倍。对于单个字段,步进器的快速扫描时间为2.1秒,使用可变字段扫描功能时甚至为1.7秒。PAS 5500/100 C包括433-nm激光器、Optical Detection Equipment和自动对准系统。激光可创建200 nm尺寸的最小对准标记,适用于最先进的光刻步进器应用。光学检测单元根据各种堆栈材料、特征和设计,自动调整激光功率和曝光,以优化图像对比度。此外，PAS5500/100 C包括GEM掩模对准机、高性能曝光源和高速扫描控制器。GEM掩模对准工具通过使用扫描电子显微镜提高资产精度。曝光源的额定功率高达100W，允许在高曝光量下进行高分辨率成像。扫描控制器确保步进器能够使用最先进的数字信号处理技术，以全分辨率成像复杂的图样。此外，ASML PAS 5500/100C内置了温度控制和湿度监测。温度控制可使模型在-20°C至+50°C的环境中运行,而湿度范围保持在20%至85%之间。综合安全设备通过持续监测和报告任何不安全的工作环境并在检测到任何风险时关闭系统,为最终用户提供保护。为了实现高效生产,ASML PAS5500/100 C有两个自动加载程序,可高效加载芯片。它还具有Advanced Process Protocol （Advanced Process Protocol （Advanced Protocol）,允许晶片制造商通过提前映射晶圆路径来提高生产过程的效率。最后，PAS 5500/100 C为193nm浸入式DUV光刻工艺步骤提供了先进的精密晶片步进技术。它可以扫描具有高重复性和精确度的复杂模式，同时提供2000 x 2500mm的大场。它内置的温度控制和湿度监测确保了安全的操作环境，而两个自动装载机提供了有效的芯片加载。此外，AP2能力可以通过提前绘制晶圆路径来提高生产效率。