二手 ASML PAS 5500 / 100C #9228851 待售
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已售出
ID: 9228851
Stepper
Uniformity: %
22x22 mm: </= 1.6
14.7*27.4mm: </= 1.6
Intensity: >/= 850 mW/cm^2
Lamp Life: 1500W: </= 150 hrs
Dose repeatability & accuracy: </= 1
Reticle masking black border size: </= 475
Image performance:
Astigmatism: </= 0.35
Focal plane deviation: </= 0.45
UDOF @ 0.40 um lines: >/= 1um
Focus / Leveling:
Focus repeatability focus: </= 50nm
Rx: </= 3 urad
Ry: </= 3 urad
FOCAL: Valid positions ≧ 14
Best focus < ± 0.2 um
Image tilt Rx < ± 5 urad
Image tilt Ry < ± 5 urad
Image distortion (lens):
Max X (NCE): </= 60nm
Max Y (NCE): </= 60nm
Magnification: </= 2 ppm
Rotation: </= 2 urad
Symmetrical T: </= 10 nm/cm2
Trapezoidal: </= 10 nm/cm2
Overlay performance:
Stage repeatability
Max x: </= 15nm
Max y: </= 15nm
Single machine: </= 60nm
2-NA Global overlay:
NA=0.48
NA=0.57
Prealigner accuracy:
Edge sensor
X (3sig): </= 8.5um
Y (3sig): </= 8.5um
Rotation (3sig): </= 180 urad
Edge sensor:
SD Y < ± 2.1 um
SD Rot < 45 urad
SD X < ± 2.1 um
Mark sensor:
SD Y < ± 2.1 um
SD Rot < 45 urad
SD X < ± 2.1 um
Image quality control (3sig):
Focus: </= 50 nm
Image Rx: </= 2 urad
Image Ry: </= 2 urad
Translation: </= 20 nm
Magnification: </= 2 ppm
Rotation: </= 2 urad
Throughput
(70) Shots at 200 mJ, 8": >/= (70) Wafers / Hour
Reticle exchange time: </= 29 Seconds
System reliability: > 500 PCs
Particle: 0.2um < 10ea
Laser output:
Alignment laser: > 12 mw
Interferometer HP laser: > 220 μw
Missing parts:
MVR Rack power supply
Lens bag inactivity
Workstation hard disk
(2) ACU Air pipes
Wafer handler elevator: 3/4 Cover.
ASML PAS 5500/100 C是一种晶圆步进器,主要用于将掩模投射到一系列基板上。广泛应用于半导体制造、太阳能、平板显示器等行业。它拥有一系列功能，旨在最大限度地提高吞吐量，同时最大限度地减少噪音和其他不利因素；例如,设备提供0.9秒以下的重新定位时间,确保作业的快速周转时间。该系统还包含环境传感器，支持对环境大气进行智能监测，以便在温度、静态和湿度方面做出响应和控制。该单元与一系列光学和光源兼容，包括ArF激光源、深层紫外线光源等等，确保各种大小和复杂的作业都能完成。它还包含OPC处理和针迹打印等任务所需的特殊功能。它的模块化设计允许用户根据自己的需要自由交换和配置设备，确保最大效率。该机器采用先进的机器人技术设计，以尽量减少垂直和水平振动，确保精确的图桉和高质量的图像。其高效的冷却工具确保颗粒热量在加工过程中均匀分布在整个腔室中，以保证均匀的表面质量。此外，其先进的激光散射仪资产旨在提供高度的精确度，确保图像始终与亚微米级对齐。ASML PAS5500/100 C具有超快运动控制功能,能够以高达2kHz的频率运行。它具有高响应速度的设计,可确保快速响应时间,以响应操作员的控制命令以立即进行调整。该模型还包含一个完整的配置文件库和一系列其他功能,可全面控制成像过程。此外,它还具有许多安全功能,如关机安全、抬起的物体检测和舞台碰撞检测。这种晶圆步进器是为最大的多功能性而设计的，拥有一系列的特点，使其适合各种应用。其多种特性使其具有很高的可靠性和效率，是其在硅器件制造商中受欢迎程度的一个关键因素。
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