二手 ASML PAS 5500 / 100D #9212923 待售
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已售出
ID: 9212923
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
Stepper, 8"
Illumination:
Uniformity:
22.0 x 22.0mm [%]: ≤1.5
14.7 x 27.4mm [%]: ≤1.5
Intensity: 900 mw/cm2
Dose repeatability and accuracy [%]: ≤1.0
Dose matching [%]: ≤2.0
Imaging:
UDOF (0.4nm) [um]: ≤1-0
Overlay:
Global overlay: 99.7% of all errors
Day 1 [nm]: X<60, Y<60
Day 2 [nm]: X<60, Y<60
Day 3 [nm]: X<60, Y<60
Stage accuracy [um]: X<15, Y<15
Material handling:
Prealign accuracy X pos [3Σ][um]: ≤8.5
Prealign accuracy Y pos [3Σ][um]: ≤8.5
Prealign accuracy Φ pos [3Σ][urad]: ≤180
Distortion:
Lens distortion [nm]: X ≤ 60, Y ≤ 60
Magnification [ppm]: ≤ 2.0
Die rotation [urad]: ≤ 2.0
Symmetrical [nm/cm2]: X≤ 10
Trapezoidal [mn/cm2]: Y≤ 10
1996 vintage.
ASML PAS 5500/ 100D是为半导体制造而设计的深紫外光刻步进器。步进器能够在高级节点电子设备上产生小至70纳米（nm）的特性。设备有多种定制选项，每小时最多可处理五个晶圆。步进器建在XYZ舞台平台上，使用长弧光源将一系列图桉投射到晶圆上。该平台利用分段晶片轨道提高生产率，允许同时使用多个独立晶片。计算机控制的光学组件投影出多个彼此对齐的图像，并转换成"主"复合图样。步进器使用最先进的阶段校准系统和保证2级（扩展）资格晶片。实时晶片位置监控（RPM）功能有助于保持使用扫描仪软件和硬件组件处理项目的一致性和准确性。步进器还具有集成操作单元Eclipse OS,可实现最佳性能和用户控制。机器具有广泛的特性和灵活性，可以针对特定的应用进行量身定制。这包括用于剂量管理、基于图像的计量、过程优化和自动晶圆处理的软件。还可以为本地和远程数据监测、分析和跟踪编写程序。ASML PAS 5500/100D是为满足先进工艺光刻的要求而设计的.其小巧的尺寸、卓越的性能和可定制的选项使其成为许多芯片生产和高级半导体工艺的理想选择。它结合了精度、稳定性和经济性，是许多铸造和芯片设计应用的完美工具。
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