二手 ASML PAS 5500 / 100D #9228177 待售
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已售出
ID: 9228177
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
Stepper, 8"
Illumination:
Uniformity:
22.0 x 22.0mm [%]: ≤1.5
14.7 x 27.4mm [%]: ≤1.5
Intensity: 900 mw/cm2
Dose repeatability & accuracy [%]: ≤1.0
Dose matching [%]: ≤2.0
Imaging:
UDOF (0.4nm) [um]: ≤1-0
Overlay:
Global overlay: 99.7% (All errors)
Day 1 [nm]: X<60, Y<60
Day 2 [nm]: X<60, Y<60
Day 3 [nm]: X<60, Y<60
Stage accuracy [um]: X<15, Y<15
Material handling:
Prealign accuracy X pos [3Σ][um]: ≤8.5
Prealign accuracy Y pos [3Σ][um]: ≤8.5
Prealign accuracy Φ pos [3Σ][urad]: ≤180
Distortion:
Lens distortion [nm]: X ≤ 60, Y ≤ 60
Magnification [ppm]: ≤ 2.0
Die rotation [urad]: ≤ 2.0
Symmetrical [nm/cm2]: X≤ 10
Trapezoidal [mn/cm2]: Y≤ 10
1996 vintage.
ASML PAS 5500/ 100D是当今市场上最先进、最可靠的光刻应用晶片步进器之一。此步进器能够在所有功能大小范围内提供世界一流的流程性能。ASML PAS 5500/100D采用模块化设计,可实现最大的灵活性和可升级性。它采用先进的光学设备,专为高端精确对准和曝光而设计。该系统设计用于曝光光的振幅和相位调制，提供出色的空间分辨率和最高动态范围。PAS 5500/100 D还具有全自动对齐器和迭加平台,在此过程中提供快速实时迭加测量和验证。此平台允许用户监视和控制整个晶圆的完整掩码处理。改进的直线电动机和驱动器可实现平滑、准确和可重复的运动。步进器还包括提供准确控制和安全过程的高级控制、监控和诊断功能。步进器还附有一个高精度的配准和对准单元，它包含了一组双4轴线性电动机和一个编码器。这台机器是为在曝光过程中非常准确和稳定的配准和对准而设计的。步进器还具有晶片清洗检验、晶片基板和框架对准、晶片基板和框架验证、晶片基板识别、晶片残余边缘识别等多种先进晶片处理技术。PAS 5500/100D还配备了先进的安全系统，旨在确保人员安全和晶圆处理。步进器包括防火工具和气溶胶释放资产，必要时可以停止处理步骤。步进器还被设计用来防止可能损坏模型的敏感光学元件或影响晶圆过程的环境条件。步进器还保证了晶体结构和非晶态结构的最大性能。PAS 5500/ 100D是任何需要精确可靠操作的光刻应用的理想选择。
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