二手 ASML PAS 5500 / 125E #9188743 待售

ASML PAS 5500 / 125E
ID: 9188743
晶圆大小: 8"
优质的: 2011
i-Line stepper, 8" 2011 vintage.
ASML PAS 5500/ 125E是由光刻工具和服务领域的领导者ASML开发的"第六代"高端商用步骤和扫描设备。该系统集成了两方面最好的技术-先进的第6代步进技术,具有卓越的成像性能、光刻控制和精确对准功能,以及前几代产品的PAS (PAS 5500/ 125E扫描模块,可实现高吞吐量和准确性。ASML PAS 5500/ 125E具有氟化KrF准分子激光器,能够产生直径达85毫米(mm)的光弧和248纳米(nm)的波长。这种激光器产生精细准直的光束,能够照亮大面积,使其非常适合需要精度和精确度的应用,例如生产微芯片。该设备采用了最先进的第6代技术,包括先进的剂量映射(DMA)和先进的抗蚀剂控制(RCA),这对于控制光刻胶的暴露剂量以及管理光掩模中的分辨率和对比度至关重要。此外,新的第6代机器采用软件控制的激光对准系统和显示器的组合,改进了模内对准。这些高级功能提高了生产效率和精度。此外,PAS 5500/ 125E利用ASML先进的"螺旋扫描"技术将图像从打印的掩码转移到半导体晶圆上。在这个过程中,设备照亮了晶圆上的一个"空间频率"点的螺旋,形成了一个地形图,设备可以不断地重新调整。这样可以确保成像在整个扫描过程中无失真,从而在整个半导体晶片中实现统一的分辨率。ASML PAS 5500/ 125E还具有自动对焦工具,该工具不断跟踪晶圆的位置,有助于保持统一、清晰的成像。此外,资产还包括一个环境同步机制,可确保模型腔室中的温度和湿度一致。这有助于延长设备的整体使用寿命,并保持一致的输出。综上所述,PAS 5500/ 125E是一个高端商用步进系统,配备了最先进的第6代步进技术和ASML PAS 5500/ 125E扫描模块。它通过剂量映射、阻抗控制、模内对准、螺旋扫描、自动对焦和环境同步机制等先进功能提供了高的成像精度和准确性。
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