二手 ASML PAS 5500 / 200 #9095592 待售
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ID: 9095592
晶圆大小: 8"
Stepper, 8"
Scan speed: 320 mm/sec
Reticle size: 6"
Chuck: Pin chuck
Wafer: Flat zone
Flow: Right
Computer: SPARC-5
ASML Software version 8.7.0 with Y2K completion
(2) WL Ports
Lens type: (80)
Max NA: 0.6
BMU: Standard
Power supply
Temperature control
Electronic control: WS lamp
Reticle changer
Wafer changer
ASML 200 lens data
FEM
UL: 0.02
UR: -0.08
C: 0
LL: 0
LR: 0
IQC
Focus: 65.85
Pressure: 967
Dose
Respectability: 0.08 %
Accuracy: 0.05 %
Sum: 0.13 %
Uniformity
Percentage: 4.27
Tilt X: -0.04
Tilt Y: -0.66
Distortion
Max DX: 34 nm
Max DY: 68 nm
NCE X: 36 nm
NEC Y: 37 nm
Currently de-installed.
ASML PAS 5500/200是一种高端晶圆步进器，将大视野与先进的成像和像素级对准精度相结合。此步进器提供高分辨率成像和增强的工艺性能,非常适合半导体制造应用。ASML PAS 5500/200的总视场为43毫米，提供了全方位的基板成像。步进器的最大分辨率为5.6微米，高精度线宽分辨率为1.5微米。此外,PAS5500/200还通过Edge Overlap提供了具有21 nm精度的高级像素级对准精度。这允许精确打印具有最大进程重复性的关键图桉层。步进器具有多种特性和控件，非常适合精细的半导体制造工艺。PAS 5500/200具有Y轴扫描功能,可扫描小阵列,确保阵列制作过程中特征大小和位置的最大精度。步进器还具有可变剂量模式，用于精确、不均匀的剂量分布，减少总暴露剂量和能耗。步进器采用耐用的空气轴承框架和扫描仪头，可提供最大的系统稳定性，并带有对称设计，以最大限度地提高运动精度。ASML PAS5500/200还包括一台功能强大的主机,可提供强大的应用程序控制、对各种用户界面的支持以及对光学系统参数的手动控制。总体而言,PAS 5500/200晶圆步进器是用于精密半导体制造应用的高级高端成像和对准解决方桉。凭借其高质量的成像能力、增强的工艺性能和集成的控制系统，用户可以享受高效准确的性能。
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