二手 ASML PAS 5500 / 300 #9211288 待售

ASML PAS 5500/300是用于半导体制造中光刻的晶圆步进器。它是为超大批量生产而设计的步进扫描工具,具有完全自动化的晶圆处理设备,提供一致且可重复的曝光功能。该工具能够处理多达300毫米的硅片，非常适合生产复杂的片上系统（SoC）设计。ASML PAS 5500/300配备了一系列专利技术，包括全场光学、激光干涉光刻、双通光学。全场光学单元具有五个25毫米凹陷透镜，提供0.65 NA从掩模到晶圆的最佳成像。激光干涉光刻（LIL）将二维正弦波形与传统照明相结合，创造出高分辨率的二进制特征，最小Linewidth@CD为35纳米。最后,双通道光学器件在整个25 mm视场中可获得0.25 μ m的分辨率。PAS 5500/300还具有双级Galvano扫描仪,能够以最小的失真在整个300 mm上扫描晶片。Galvano扫描仪的最大扫描速度为30,000线/秒，最大速度为0.5 m/s，提供高吞吐量和快速循环时间。另外，晶片级具有保证精确位置精度的双致动器和减轻环境干扰的减振机。PAS 5500/300具有全自动晶片处理工具，提供晶片在舞台上的精确放置以及处理器前后之间的轻松传输。前置装载机提供低位错处理,平均晶圆到晶圆变化最小,从而创建一致的曝光配置文件。该室还设有一个大气控制器，为一系列负载和工艺条件提供一致的压力和温度。总体而言,ASML PAS 5500/300晶圆步进器是一种具有创新技术的先进工具,可提供超高量生产和一致、可重复的曝光。全场光学、LIL、双通光学、快速扫描和自动晶圆处理的结合使得该工具非常适合生产高分辨率、低Linewidth@CD功能低至35纳米的复杂SoC设计。