二手 ASML PAS 5500 / 300B #100797 待售
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已售出
ID: 100797
Stepper, 8"
Config Item Value
Cassette (elevator) position Cassette position 1 and 2
Wafer Track Interface TEL Mark 5/7/8/ACT8
SECS I and II Interface Yes
SECS Job Creator Yes
Batch streaming Advanced RMS
E-Chuck Analysis Standard
Image quality control Standard
Tape streamer OCU-MK4 or less Yes
Single Reticle Smif Handling Yes
SignALL Yes
IRIS-6 Inch Reticles Yes
PEP1 Standard
PEP2 Standard
Reticle Error Compensation Standard
Focal Standard
Extended NA-range Yes
Aerial Standard
Intensity 2 Yes
Quasar Yes (DOE ID13 MP4 30 included)
Extended Exposure Yes
Focus Spot Monitor Yes
PEP300B = /300B to /300C upgr Yes
IOST Yes
Valid ATP-document 12NC 4022.502.42301
Hertz 60 Hertz
Power 220 Volt
Signal Tower Remote
Software release 5500 SW rel. 6.2.2
SPM Alignment Yes
Optical Prealign (Mark Sensor) Standard
Wafer size 200 mm
Wafer type Flat
Language indication KOR
CSR's for PAS5500 general Focus monitoring
Focus Spot Monitor Yes
Extended Exposure Yes
Factory release Sw rel. 6.2.0
AB matching Yes
Reticle size 6"
Super clean package Yes
XPA alignment Standard
Optical Prealign (Mark Sensor) Standard
LSQ disto modelling Standard
CSR's for PAS5500/300 old vari CSR 1089 ( T97-DUV-02-100 )
CSR's for PAS5500/300 old vari CSR 1191 ( T97-DUV-02-93 )
CSR's for PAS5500/300 old vari CSR 1192 ( T97-DUV-02-94 )
CSR's for PAS5500/300 old vari CSR 1194 ( T97-DUV-02-96 )
1997 vintage.
ASML PAS 5500/ 300B晶片步进器是一种用于半导体制造的关键器件。作为光刻工艺的一部分，晶片步进器被用来投射图样到晶片上，允许以某种方式蚀刻、处理或操纵目标区域。PAS 5500/ 300B是光学对齐的，包含一个照明器、投影光学器件、对准光学器件、支撑和运动系统、照明设备和真空系统。照明器是投射光源，包含多个灯、灯插座、快门驱动器和快门镜头。发光器还可提供保护,防止部件受到机械反冲或热冲击。视曝光状态而定,将选择所需的曝光。投影光学器件是负责创建投影到晶圆上的图像的设备，包括物镜、冷凝器透镜、成像透镜和光学滤镜。物镜将光聚焦到晶片上，冷凝器透镜将光聚焦到成像透镜上。成像透镜然后成形投影图像，光学滤镜用来选择用于特定曝光的光的波长。对准光学器件处理过程中晶片的处理和移动。对准光学器件控制曝光过程的启动和停止，并保持晶片与成像透镜的对准。支撑和运动单元提供晶圆和投影光学器件之间的对准。原来的覆盖精度，这是把曝光模式在晶圆上准确和正确对准的过程，保持与支撑和运动机器。该工具包括许多部件，如，一个视场测量模块，一个运动舞台，一个焦点控制器，一个激光干涉仪，和一个计算机接口。照明资产是负责模型所有电气部件的电源，包括数字照明控制模块、远程功率控制模块、功率放大器、数字放大器控制器和放大器。真空设备负责容纳晶片的基板腔以及其他组件。它在过程中保持压力，负责在晶片暴露时保持其清洁。它还有助于防止污染物进入室内，并防止氧化在暴露过程中发生。总体而言,ASML PAS 5500/ 300B是一种非常重要的半导体制造设备。利用其照明器、投影光学器件、对准光学器件、支撑与运动系统、照明单元、真空机的组合，可以准确精确地创建用于操纵和塑造半导体芯片的图像。
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