二手 ASML PAS 5500 / 300B #293817865 待售
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ID: 293817865
Stepper
Numerical Aperture (NA): 0.40-0.57
Resolution: 250 nm
Throughput (WPH): 80.
ASML PAS 5500/ 300B是用于先进半导体器件加工的300毫米高性能晶圆步进器。该设备提供超高吞吐量和高级阵列性能,最大分辨率为0.1微米。PAS 5500/ 300B是一种先进的光学步骤和重复光刻系统。它基于KrF、ArF和ArF-plus准分子激光器,允许广泛的光刻工艺能力。利用获得专利的PAS300系列高级工艺能力(SPC)技术,该设备能够对最复杂的图样进行成像。它还为工业提供了无与伦比的覆盖和聚焦精度,使其非常适合生产最新的纳米级设备。这台机器垂直集成,包括激光、照明器、物镜、晶圆座和原位扫描仪两个精密级。ASML PAS 5500/ 300B能够对包括光敏树脂、GaAs和ZnS在内的多种不同材料进行制图。它提供0.1微米的业界领先的光学分辨率,最小特征尺寸为0.4微米。这允许极其精确的蚀刻和图桉。作为一个高级工具,PAS 5500/ 300B配备了几个专门的功能。其中包括干涉监测资产、晶圆定心调节器和场内边缘放置优化技术。通过这些设计,该模型能够以最小的线宽变化实现令人难以置信的高模式保真度。此设备专为超高吞吐量而设计。ASML PAS 5500/ 300B具有4透镜系统的分装能力,可同时处理8个晶片。它还具有灵活的作业处理序列和运行时间临界光刻任务的选项。PAS 5500/ 300B具有用户友好的界面,可提供准确性和速度,并为用户提供低成本。该单元可支持各种工艺友好型晶片,从3英寸到8英寸,非常适合先进的光掩模应用。该机具有优异的设计性能和强大的设计性能,是半导体器件加工的理想解决方桉。
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