二手 ASML PAS 5500 / 300C #293746594 待售
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ID: 293746594
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
Stepper, 8"
CYMER ELS-5600 Laser
DONALDSON P198475 Filter
ARMS Reticle handler
Wafer handler
IL Bottom module
CT Cabinet
Electronic cabinet
OCU Unit
ARMS Control unit
Cover cart
2000 vintage.
ASML PAS 5500/300C是一种最先进的晶圆步进器，用于生产先进的集成电路（IC）或微芯片。它是一种无掩码步进器，是高端应用的领先光刻系统之一。ASML PAS 5500/300C专为2D和3D光刻应用而设计。由于其先进的技术和自动化,该设备提供了可重复性和更高的工艺效率.它的扫描速度为1.6 ×放大倍数,每小时可转换为80多个晶圆。该系统基于独特的双级光学单元。它具有两轴对齐机、高级光束扫描单元和高性能成像仪。集成光学平台提供卓越的光学性能和卓越的吞吐量，允许更快的晶圆处理。PAS 5500/300C是世界级的无掩码步进器，能够执行高度精确的曝光。它具有许多功能,旨在确保最高的精度和可重复性。该工具利用了多种稳定、准确的模式迭加技术，包括：基于关联的对齐、迭加补偿、对齐模式匹配和边缘细化算法。该资产因其无掩码可编程不对称（MPA）特性而备受推崇。此功能使可调曝光参数能够补偿迭加和接近度的变化。利用MPA，晶圆表面积可以成功减小，从而为IC生产带来更高的精度和成本效益。此外，PAS 5500/300C具有一种新的采集模型，具有先进的图像比较、缺陷检测和像差测量能力。它还采用了获得专利的Photomask@@-Maskles@@-Transfer技术，使用户能够比以往任何时候都更准确地将图样从光学掩模传输到晶圆。ASML PAS 5500/300C可以很容易地集成到任何光刻设备中，并得到广泛软件工具的支持，使其比以往任何时候都更加通用。是生产大容量集成电路等先进微元件的理想工具。ASML PAS 5500/300C具有较高的精确度、可重复性和成本效益,已成为先进半导体制造的主要选择。
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