二手 ASML PAS 5500 / 300C #9197509 待售

ASML PAS 5500/300 C是半导体器件制造中使用的全自动晶圆步进器。这一工具旨在制造具有超精确图桉的复杂集成电路芯片，使用可扫描的深紫外线（DUV）光源，以精确曝光光刻涂层晶片。ASML PAS 5500/300C为最先进的芯片设计提供了较高的吞吐量处理速度和卓越的统一性,能够在人工步进设备完成相同任务的一小部分时间内处理数百个晶圆。其主要优势在于其高性能光刻系统,在整个过程中提供极其严密的聚焦和精确的曝光。这是通过其先进的软件和硬件实现的，包括具有大视野的光学扫描仪、集成传感器以及用于精确晶圆放置的电动级。扫描仪的大视野让PAS 5500/300C可以同时处理小作业和大作业，显着减少了处理时间。此外,PAS 5500/300C还具有一个场平整透镜,可平整整个视场中的图样变化。ASML PAS 5500/300 C还设计了多种功能,可提高其整体效率。例如，"预对准"程序会快速对准晶片方向，然后"自动定心"程序会快速重新对准并光学对准光刻胶图桉。"多步策略"允许多个晶片在同一位置曝光，进一步加快了流程，而其软件开发工具包（SDK）则赋予用户开发自己流程配方的权力。ASML PAS 5500/300C还包括其他几个提高灵活性和性能的功能，如其时间多路复用器（Time Multiplexer，TMX）镜面和准直透镜，以及基于激光的晶片稀释单元。此外,还可以添加可选的自动聚焦机,以提高精度。其他工艺选项包括区域背景清除、分辨率调整、噪声校正和极化校正。综上所述,PAS 5500/300 C是一种先进且功能强大的光刻工具,具有多种性能、准确性和效率特点。其广阔的视野、集成的传感器和电动舞台、软件系统以及可选的附件使其成为大批量生产和精确的小芯片设计过程的理想工具。