二手 ASML PAS 5500 / 300C #9309192 待售

ASML 5500/300C晶片步进器是一种紧凑且经济高效的曝光设备，设计用于生产用于制造半导体的光掩模。步进器具有直观和用户友好的图形界面,使用户能够轻松调整设置,以实现晶圆的完美对齐和曝光。ASML 5500/300C采用双滴激光辅助步进结构，为每一层创建两个重迭的曝光模式。这有助于确保晶片被曝光的准确定位,并创建更小、更均匀的特征大小。该系统还具有一个获得专利的"激光辅助散焦"（LAD）单元，使机器能够精确调整激光束的焦点，以匹配晶圆的表面，以获得最佳的对准和曝光。ASML 5500/300C步进器配备了大视场（118 x 97毫米）和特殊的大面积分束器，使工具能够快速扫描大面积晶圆，以渲染高分辨率图像和特征。这有助于显着缩短周期时间，提高整体暴露质量。除了其曝光能力外，ASML 5500/300C晶圆步进器还集成了功能齐全的过程控制资产。该模型允许设备在曝光过程中自动监控晶片的位置，确保可重复的对准和曝光参数。该系统还具有集成缺陷检测单元（DDS）,使机器能够在曝光过程中检测和纠正模式中的缺陷。最后，ASML 5500/300C晶片步进器与广泛的镜头选项兼容，包括远心镜头、缩放镜头和移位镜头，这有助于确保高达0.3微米的精确度。这有助于以尽可能高的分辨率创建光掩模,使用户能够在其模式中获得最精细的细节,并使其能够生产出尽可能最好的半导体零件。综上所述,ASML 5500/300C晶片步进器是一种复杂而直观的曝光工具,可为用户提供高水平的曝光精度和控制。该资产的多种功能帮助用户以最小的工作量快速呈现高分辨率模式,并且由于其先进的过程控制和缺陷检测系统,该模型确保了最大的产量和质量。