二手 ASML PAS 5500 / 400B #293817860 待售

ASML PAS 5500 / 400B
ID: 293817860
i-Line stepper Numerical Aperture (NA): 0.65 Resolution: 280 nm DCO:  45 Throughput (WPH): 104.
ASML PAS 5500/ 400B是一种用于半导体光刻的浸入式步进器。它是在集成电路芯片上可靠地产生高精度模式的理想选择。这台最先进的机器先进的光学和机械技术使其成为亚微米和纳米级产品的理想选择。PAS 5500/ 400B提供高性能、扫描式步进器和空气轴承级。该扫描仪具有高精度伺服环控制和增强型HeNe激光自动准直仪干涉仪。该机还提供先进的图像评估程序,高精度,和优越的对齐。它具有高吞吐量、快速的空间宽度(侧壁角)生成能力,并且在层状阵列应用中具有良好的对比度。ASML PAS 5500/ 400B的曝光程序范围从原型制作的长时间曝光运行所需的程序到高产产量和最大吞吐量所需的短曝光时间的程序。它还能够处理直径达8英寸的晶片尺寸,并且可以处理小至5微米的模具尺寸。该机器在所有现场尺寸上均提供统一、精确的曝光性能。这种晶平光学器件可在所有磁场尺寸上提供卓越的聚焦深度,而自动对焦系统可在曝光期间优化聚焦条件。PAS 5500/ 400B专为高精度和深度聚焦而设计,用于高度复杂的集成电路模式。它是生产VLSI和内存芯片以及生物医学底物的理想选择。此外,它是翻转芯片应用的理想选择,也适用于无掩码细线图桉。这台机器提供了最大的准确性和可重复性,确保了在多个晶圆运行中的精确模式。其紧凑的设计也使振动最小化,同时允许较高的吞吐量速率。用于矢量数据输入和迭加校准的外围控制器在处理过程中提供了灵活的操作。总之,ASML PAS 5500/ 400B是一种可靠可靠的晶圆步进器,为集成电路的高精度阵列设计提供了卓越的性能。高精度扫描、优越的图样均匀性、灵活的操作使其成为高精度光刻生产工艺的理想选择。
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