二手 ASML PAS 5500 / 400D #9207081 待售
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已售出
ID: 9207081
优质的: 2004
Step and scan system, 8"
Imaging performance:
Resist: Ultrai 123
Through focus:
Dense lines: 25 nm
Specification: ≤35 nm
Isolated lines: 20 nm
Specification: ≤50 nm
Best focus:
Dense lines: 15 nm
Specification: ≤25 nm
Isolated lines: 13nm
Specification: ≤25 nm
Main body
OCU
IL Bottom module
C&T Cabinet
Arms
WTS
Cover set
Electronic cabinet
Wafer stage
Airco unit
R-Chuck box 1
Accessory box 1
Accessory box 2
Accessory box 3
Accessory box 4
SECS / GEM: Yes
2004 vintage.
ASML PAS 5500/ 400D是一种晶圆步进器，用于将图样传递到半导体基板表面。它是一种高度精确的机器，能够产生支持各种先进半导体技术发展的复杂模式。通过使用紫外线（UV）光源、最先进的光学器件以及精确的对准，步进器能够快速地将施加在晶片上的光敏层暴露在结构极小的阵列上。ASML PAS的光学元件5500/400D包含一个变焦透镜、拼盘镜和两个折面镜，所有这些都被用于基板的照明和成像。镜头由两个调节打印光束成像角度的镜子和一个用于控制成像镜头位置的检流计设备组成。拼盘镜面用于沿x轴和y轴扫描基板,以获得所需的图像分辨率。最后，这两个折叠反射镜有助于将成像光束对准和聚焦到光致抗蚀剂层上。步进器还配备了动态线路发生器（DLG），用于以纳米精度将成像光束精确对准晶圆。通过使用DLG的二维矩阵，根据晶圆的运动不断调整光束位置。这确保了成像过程在每次曝光时都是准确和可重复的。除了光学外，PAS 5500/400 D还配备了多项先进的控制和安全功能。这包括一个高度先进的预测控制系统，该系统不断调整光学成像角度，以确保图像与每次曝光保持一致。此外,步进器还具有强大的真空装置,可保持基板与拼盘的粘附,从而使过程在极其清洁的环境中进行。PAS 5500/ 400D是一种最先进的晶圆步进器,能够在每次曝光时产生精确的模式。其卓越的光学器件、先进的DLG和预测控制机器确保每次曝光时的成像过程都是准确和可重复的。此外,其强大的真空工具允许在极其清洁的环境中进行该过程。这使得ASML PAS 5500/400 D对于那些在生产过程中要求最高精度和准确性的半导体行业的人来说是一个有价值的工具。
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