二手 ASML PAS 5500 / 400D #9269681 待售

ASML PAS 5500/ 400D是半导体工业中用于光刻曝光的晶圆步进器。它是一种复杂的成像设备，使用各种精密透镜和执行器系统将图样投射到涂层晶片的表面上。该工具采用了新的创新，包括半自动镜头和晶圆级系统。该系统可以处理最小足迹为6-7nm的裸露基板进行生产。ASML PAS 5500/400D使用KrF （Krypton Fluoride）准分子激光器，由于其优越的光学特性而产生最佳的清晰度。这种激光器产生248纳米紫外线，用来将掩模的图样传递到晶圆上。为了保持掩模对准的准确性和工艺可重复性，其获得专利的致动镜面扫描装置提供了激光沿X轴和Y轴的精确对准。这将创建跨晶片的精确扫描。PAS 5500/400 D具有创新的晶圆级，允许机器使用振动抑制和高级运动控制算法的组合。此晶片级工具具有防夹紧保护、最佳跟踪和自动聚焦资产,在扫描过程中具有很高的精度。此高级模型可确保晶片在整个扫描过程中保持正方形和居中。该工具还具有二进制光学器件,用于隔离散射在掩模上的光。其高容量基板支架能够处理12英寸晶片，并为光刻涂层提供自动化的解决方桉。为了提供最高的影像解析度，并能够更广泛的曝光水平，该工具还配备了高性能的物镜设备。这种可调系统可以降低焦点深度，同时提高迭加精度。该单元还利用了由一对专利振荡器提供动力的精密激光束偏转机，允许水平覆盖在0.50微米精度以内。最后,PAS 5500/400D通过提供实时工具状态信息的高级诊断工具,为最大正常运行时间和生产量设计。这使操作员能够轻松评估刀具性能并保持对过程窗口的完全控制。该资产还利用高速数据采集模型，减少负载时间，增加模式吞吐量。该设备提供无与伦比的可重复性和吞吐量,以实现卓越的生产。