二手 ASML PAS 5500 / 550D #9191419 待售
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已售出
ID: 9191419
优质的: 2000
DUV Scanner
Illumination board
Temperature cabinet: Controller
OCU: ULTRA-10 Including two hard disk
Electronics cabinet
Wafer transport system (wafer handling)
Air control cabinet
Laser & beam expander: CYMER ELS-6600 laser ( 2KHz ), 2000
ARMS:
(2) Grippers
IRIS: No
Reticle stage: Inside box
ACC Cabinet: Charcoal filter
Exposure unit check :
Visual check bottom lens
Top lens
No cystalization
Integrated slit uniformity:
(11) Scans in 26mm
Setting 1: 0.78
Illumination intensity:
(11) Scans in 26mm
Setting 1: 886
Dose repeatability and accuracy:
Dose repeatability: 0.3
Dose accuracy: 0.52
Image plane deviation: 178
Astigmatism: 76
Image distortion:
Non-correctable error: 11.5 / 8.8
Focus and leveling:
Focus repeatability (3 Sigma) : 0.01
Slit axis tilt repeatability (3 Sigma) : 0.37
Scan axis tilt repeatability: 0.39
Overlay performance:
Stage repeatability: 4.4 / 4.5
Single machine overlay using TTL alignment: 11.5 / 13.1
Athena alignment: X=11.5/Y=12.1
Wafer throughput:
8" Wafers: (46) Exposures
16 x 32 mm, 30 mJ/cm2
TTL [wafers/hour]: 117.8
Athena [wafers/hour]: 115.8
RBA [wafers/hour]: -
Intensity [mW/cm2]: 1240
Reticle exchange time:
Flash to flash reticle exchange time (s): 18.45
Image quality control:
3σ image sensor measurements focus repeatability [nm]: 23.37
Slit axis tilt repeatability [urad]: 5.79
Scan axis tilt repeatability [urad]: 1.17
Translation repeatability [nm]: 5.77
Magnification repeatability [ppm]: 0.29
Marker rotation repeatability [urad]: 0.26
Samos: 2.4
Straylight rema o/c (%): 1.11
2000 vintage.
ASML PAS 5500是用于制造超小型半导体器件的晶圆步进器。该设备采用扫描激光系统，依次照亮硅片表面。每一个暴露于激光器的区域被分成一系列的曝光区域，然后以无掩码直接的方法印在晶片上。PAS 5500具有现代化的成像单元，包括第一面衍射光栅、光学成像机和双波长激光源。该工具的激光波长范围为530-570 nm，光斑大小为1 μ m。晶片级支持200 mm的最大基材尺寸以及6英寸的晶片与透镜的分离。步进器还提供高精度的步骤和重复定位,可重复性为+/-1 um。其高分辨率允许创建超精细特征和结构,最小线宽范围为0.1至1.0微米,间距精度小于0.5微米。它还具有先进的对齐功能,对齐精度为30nm。PAS 5500具有高功率光源,可在500 nm时提供10 kW的最大功率,最大资产强度为1.3 J/cm2。该型号的最大吞吐量为每小时600个晶圆，最大曝光面积为4 x 5微米。其先进的批量曝光功能允许使用大字段和多级曝光的不间断阵列作业。设备具有自动对齐逻辑,可实时执行自动模式搜索和对齐校正。它还提供基于晶圆地形的AutoFocus功能,以达到最佳焦点。PAS 5500是一种通用的晶圆步进器，适用于光刻和纳米印刷。为超小型半导体器件的制造提供了高产率、高分辨率的成像。该系统是需要快速、可靠且节能的步进解决方桉来满足生产需求的制造商的理想选择。
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