二手 ASML PAS 5500 / 60 #293817857 待售

ASML PAS 5500/60是用于生产半导体晶圆的先进光刻工具。它是一种浸入式光刻设备，利用水比空气折射率大的优势，在相同的数值孔径光束下提高分辨率。ASML PAS 5500/60系统具有先进的集成分级和控制单元,旨在提高精度和吞吐量,从而实现半导体行业所需的可靠和有效的高精度光刻技术。PAS 5500/60对于70 nm技术节点能够以0.35微米的分辨率生产晶片，对于90 nm节点能够以0.5微米的分辨率生产晶片。PAS 5500/60包括一个可变功率激光光源，使各种强度和波长（359nm-451nm）能够解释半导体工艺中使用的各种材料。光线作为"像素"特征图桉的一部分聚焦到晶片表面较小的斑点尺寸（<1 μ m）。该机器同时支持环形和离轴照明类型,允许它用于生成阵列体系结构的选择。ASML PAS 5500/60晶片步进器还具有集成的数字控制器,可精确驱动晶片卡盘,从而为每次曝光提供高度精确和可重复的定位。卡盘设计为最多同时支撑四个板，允许多层场通过单次移动暴露。次要阶段以精确、受控的方式迅速暴露其余领域。该工具还具有自动对齐功能，允许使用CCD摄像头在多层之间精确可读的对齐。该控制工具可精确控制曝光和其他设置,并可用于脱离卡盘位移感测,以精确测量场大小和位置。各种软件都支持该资产，包括但不限于彷真器、自动对焦软件和降噪软件。此外，ASML提供多种与ASML PAS 5500/60相关的服务。这包括预防性维护间隔、实时监控和诊断、远程支持和评估服务、校准服务、模型升级和软件扩展以及深入培训。PAS 5500/60是一种先进的光刻工具，能够以高达0.35微米的分辨率生产晶片。它配备了精确驱动晶片卡盘的数字控制器，为每次曝光提供精确、可重复的定位。它还配备了支持多种照明类型的可变功率激光光源、集成对准设备和各种软件支持。这种特性和服务的结合使得PAS 5500/60成为半导体生产的理想工具。