二手 ASML PAS 5500 / 700B #293779167 待售
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ID: 293779167
晶圆大小: 8"
优质的: 1999
DUV Stepper, 8"
CIM: SECS
SMIF Interface
Wafer transfer unit handler system
C&T Cabinet
Operator console unit
Integral slit uniformity:
Annular: ≤ 1.2
Conventional: ≤ 1.2
Illumination intensity:
Annular: 2400
Conventional: 2400
X and Y Moving standard deviation: ≤ 30 nm
X and Y Moving average: ≤ 15 nm
Dose repeatability and accuracy:
Dose repeatability: ≤ 0.7%
Dose accuracy: ≤ 2.0%
SAMOS: ≤ 5.5
Image plane deviation: ≤ 175
Astigmatism: ≤ 125
Best focus (Dynamic): 0±35 nm
Image sensor measurements:
Focus repeatability: ≤ 30 nm
(Rx) Scan axis tilt repeatability: ≤ 6.0 μrad
(Ry) Scan axis tilt repeatability: ≤ 2.0 μrad
Translation repeatability: ≤ 10 nm
Magnification repeatability: ≤ 1.0 ppm
Die rotation repeatability: ≤ 1.0 μrad
1999 vintage.
ASML PAS 5500/ 700B是用于光刻的最先进的晶圆步进器。它是一种具有指挥核心的扫描设备，具有精确、连续移动和长期稳定的特点。其主要应用是在半导体器件的制造中，将预膨胀晶片转移到步进器上，利用光刻曝光实现精确对准。步进器是一个全自动的计算机控制成像系统。它包含了一个高精度的金属框架，称为晶圆级，既有X轴也有Y轴运动。该级由电动机驱动，能够以0.5到4.0微米的间隔移动。它还具有以0.1微米大小步长的精度测量其位置的能力。它的线性编码器提供了对舞台运动的可重复控制。晶片级容纳直径最大10英寸的晶片，最大厚度为45mm。步进器可以容纳厚度范围在7µm至5mm以内的晶片。除了支持具有不同平坦度水平的晶片外,步进器还包含一个能够检测形状误差和校正曝光图像的校准单元。PAS 5500/ 700B配备了大功率光源和一系列高分辨率镜头。它提供了一系列的曝光，包括线路/空间和接触曝光，以及高纵横比和复杂的形状掩蔽。此外，其先进的光学装置和镜面机还可以微调光刻剂的焦点和景深。步进器还配备了高性能图像分析工具。它能够检测图像中的缺陷和不符合度到0.25 µm的水平。这使得几乎完美的晶片没有排便.ASML PAS 5500/ 700B的可靠、可靠和可重新配置的设计允许快速、高分辨率的步进操作,最大运行速度为每秒35次曝光。此外,步进器还具有广泛的粒度,从全场暴露到部分场暴露,在生产应用中提供了更大的灵活性。PAS 5500/ 700B是一种功能强大且用途广泛的晶圆步进器,可提供可靠、高分辨率的性能。是生产优质半导体器件的合适工具。其先进的光学、成像资产和自动化操作可实现高效、精确的光刻。
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