二手 ASML PAS 5500 / 750 #9194126 待售
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ID: 9194126
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
DUV Scanner, 8"
248 nm
SCR Rack:
Current amplifier CPU board TCS3x mater
TC3X Current amplifier
(6) Boards / +5 V PSU /+24 V PSU
AAR Rack:
Power supply boards
CPU
Optical & analog demodulators boards
CSU Rack
RRR Rack
WHR Rack
LPR Rack
WPR Rack: PSDC 48 V
MSR Rack:
Power supplies 5 V & 7 V/LS
AL Hinds controllers
RMR Rack:
Velocity drive digital
Sensor board
Z Sensor analog & digital boards
IL Rack:
Illumination interface board
PID 2,4,5 Boards
Power amplifier board
Level master board
PTI Board
ARMS Rack:
Library card 1
Remote reset
CPU
Wafer handling module:
Gripper unit
Pre-alignment unit
Discharge unit
Input pedestal
Dipod unit
Switch clamp valve
Reticle handling module:
(3) Libraries
Upper & lower robot
Illumination module:
Doe exchanger
ACL Board
BMU
Beam stearing
LSI Board
AIR Mount module:
(3) Servo valves Tc3x block
Geophones
Pre amp boards on AM
WS Module:
(2) Air bearings
Short-long stroke decoupling block
Air bearing controllers
HP Receivers
Flax cable fiber optics
Alignment module:
TTL Laser
OA Red & green laser
Power supply red & green laser
OA CCD CAM
Temperature conditioning module:
C&T Unit & controller
Exhaust fan
ACC Fan & controller
CYMER Laser 61433
Laser 1A8B
Tool model: ELS-6600
LNM
WCM
MCS Board
TCS Board
Exhaust vacuum sensor
Missing parts:
Computer system:
Sun station assembled ultra 10
CRT Monitor
Mouse trackball
2000 vintage.
ASML PAS 5500/750是一种先进的模拟光刻工具，被半导体制造商用来在硅片等材料表面产生复杂的图样。该设备是一个完整的半导体晶片步进解决方桉,其吞吐量、精度和精度远远优于竞争对手的解决方桉。该系统具有集成的双轴（XY）子字段对齐器单元、子字段像差校正机和用于传输光束的可变点扫描仪。Subfield Aligner工具允许在晶片上精确对齐所需的阵列,而不管晶粒大小或任何其他不规则性。此资产的最高精度为+/-200 nm绝对步进微推精度。经过Subfield Aligner模型后，晶圆经过Subfield像差校正设备，自动校正晶圆处理和写入阶段引入的像差。该系统还能够补偿晶圆材料引起的大部分光刻失真。最后，晶片通过变点扫描仪，利用先进的电气聚焦控制参数优化算法，为各类晶片提供无与伦比的光束传递精度。该单元还采用了双束喷射技术，以帮助实现最佳曝光时间和强度性能。此外，这台机器能够每小时进行5500次曝光，同时在运行过程中保持非常节能和安静。最重要的是,PAS 5500/750在设计上是模块化的,这意味着它可以通过最新的组件和功能来适应任何生产需求。此外,该工具与大多数流行的软件平台兼容,并且具有很高的可配置性,使其适用于高端生产设置以及成本较低的实验室。总体而言,ASML PAS 5500/750是一种多功能的晶圆步进解决方桉,能够在各种材料表面上产生非常精确的图样。其强大的组件和功能使其成为最先进的模拟光刻工具之一,提供无与伦比的吞吐量、精度、准确性和能效。
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