二手 ASML PAS 5500 / 750D #293811828 待售

ID: 293811828
晶圆大小: 8'
Deep Ultraviolet (DUV) scanner, 8" CYMER ELS 6600 Laser Wafer transfer system Operator console unit CIM: SECS SMIF Illumination intensity: up to ~2954 (exceeding the standard ~2400 specification in conventional mode) Overlay performance: approximately 50 nm (e.g., GM Tx ~0.0512 µm) Dose repeatability: approximately 0.11%, below the ≤0.7% specification threshold 2002 vintage.
ASML PAS 5500/750是为大容量半导体器件制造而设计的高性能、经济高效的晶圆步进设备。它是提供均匀曝光和步进运动的四列或六列配置。该系统具有高分辨率和高精度的曝光控制和可重复性的光学阶段。步进器可以配置两个光学柱和一个减小柱,一个探测器和一个灯模块。主光柱装有一个HexaScan光学模组,是一个有六束激光束的二维扫描仪,比传统的四束六角扫描仪增加了五倍的成像场尺寸。第二列可用于检查晶圆的位置和晶圆上图桉的地形。该单元使用先进的闭环控制机进行舞台步进重复,并使用光学臂进行平滑扫描。PAS 5500/750配备了一系列成像能力,包括原位识别显微镜、自动校准、过程监控和自动对焦。该工具旨在提供精确、低功耗和均匀的曝光,提供广泛的照明设置和精确的特征检测,从而提供最佳性能。此外,该资产的设计旨在提供精确、一致的晶圆对齐以及检测迭加和错位误差的准确性。晶圆步进器能够在高生产速度下运行,并且可以配置多个热控制选项,例如干式真空和液体冷却系统,以确保高性能操作。该模型能够以一定的速度扫描和驱动显示场,并且每小时可以达到几千个晶圆。步进器还具有可靠的处理平台,为盒式磁带提供传输。ASML PAS 5500/750是一种功能强大且用途广泛的晶圆步进器设备,可提供高质量的成像,并且可以轻松处理各种设备制造过程。由于其先进的控制系统、精确的光学元件和多种操作模式,该单元能够在多个处理级别上提供统一和一致的曝光,并且可以处理比其他系统更高的体积。可靠高效的操作使机器能够以经济实惠的成本提供卓越的性能。
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