二手 ASML PAS 5500 / 750F #293817856 待售

ASML PAS 5500/ 750F是由半导体制造业技术领导者ASML开发的下一代无掩码光刻晶片步进器。它是一种高端、全场、I线浸入式光刻设备，用于生产45纳米及以下节点的IC图样。PAS 5500/ 750F具有许多高级功能,可确保最佳性能。它具有150纳米NA、用于高NA成像性能的Ohara熔融二氧化硅涂层基板（FSCS）、750瓦激光和用于提高聚焦深度（DOF）的离轴照明。高NA和强大的照明有助于打印更高的分辨率和复杂的氛围和孔在同一曝光。系统还具有缩放功能,可创建多种不同的字段大小,以适应从10mm x 10mm到200 mm x 200 mm的所有掩码大小。ASML PAS 5500/ 750F配备了先进的成像技术，以确保卓越的模式放置精度和迭加性能。它能够在200毫米晶圆级达到+/-5微米的最大覆盖精度和+/-10微米的最大放置精度。它还具有高速光栅扫描模式、旋转图像平面（RIP）技术和运动校正单元。这些功能使机器能够快速准确地扫描晶圆上的掩模功能。PAS 5500/ 750F旨在减少整个晶圆的缺陷。为了帮助减少基板载荷和卸载误差，它有一个基于照相机的基板对准单元，允许晶片与轴精确对准。它还具有主动对齐工具，以帮助减少元素变形和错位造成的缺陷。晶圆曝光光学器件还具有减少模式变化的功能，从而进一步保护晶圆免受污染。ASML PAS 5500/ 750F能够重复具有复杂几何形状的特征和特征,而不牺牲模式保真度和分辨率。它还具有可靠和低维护的激光源,允许以最少的维护来增加正常运行时间。此外,它的高级图像处理套件还可以帮助识别由光学资产中的像差或振动引起的任何图像失真。总之,PAS 5500/ 750F是一种先进的光刻模型,可创建更高分辨率的图样,具有更高的放置精度、迭加性能和图样保真度。它具有高NA、缩放功能、各种成像技术和主动对齐功能,可帮助确保最佳性能并减少缺陷。