二手 ASML PAS 5500 / 80 #293591386 待售

ASML PAS 5500/80是ASML采用双装甲顶框的基于步进扫描的高级投影光刻设备。它用于将精确的图像投射到晶片基板上，通常用于制造半导体芯片。该系统通常具有一系列编码扫描仪、光学元件、执行器和控制系统,允许执行超短、可重复的基于扫描的步骤。ASML PAS 5500/80系列中的光刻系统可提供高达1.5纳米的分辨率,并且可以暴露最小光斑尺寸为30nm的表面。该单元配有40 nm分辨率相位板和ICOS 4.0 UV浸入式光刻技术机，可实现高通量和精确精度。此外,与许多其他系统不同,PAS5500/80系列提供了更高的速度、工艺优化和光刻精度。这些功能集成到95nm、80nm和65nm节点中。PAS 5500/80工具配备了多种光学元件和激光器，包括非球面透镜、非球面反射镜、分束器、二色滤波器和光栅。这些元件和激光器形成了高分辨率光学器件的集成组合，让用户实现了更好的模式定位，提高了线条和边缘的能力，提高了分辨率的统一性。除光学元件和激光器外，ASML PAS5500/80系列还包括一个氦硼激光器和一个衍射受限的投影光学封装。氦硼激光器允许广泛的波长偏移，而衍射受限的投影光学包可以增加标线成像，同时减少光斑尺寸的像差和失真。PAS 5500/80资产还包含一个可以连接到计算机显示屏的独立操作员控制，以便更好地管理模型。此控制界面能够提供闭环控制、连续阶段扫描和对准,以及实现需要曝光的基板部分的旋转、倾斜和聚焦。ASML PAS 5500/80系列的设计能够容纳300 mm和200 mm的基板，可以处理-40°C到+90°C的基板温度。此外，设备还有一个双视图晶片位置编码器，在基准搜索和对齐方面提供了非常准确的结果。综上所述,ASML的ASML PAS 5500/80是一种最先进的晶圆步进器,能够将精确的图像投影到基板上以用于半导体制造。它设计有先进的光学和各种激光器，以及一个独立的操作员控制，可以连接到计算机显示器。PAS5500/80系列的光刻系统可提供高达1.5纳米的分辨率,并且可以曝光最小光斑尺寸为30 nm的表面。