二手 ASML PAS 5500 / 8TFM-A #293817844 待售
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ID: 293817844
Stepper
Numerical Aperture (NA): 0.55-0.80
Resolution: 110 nm
DCO: 8
MMO: 17
Throughput (WPH): 25.
ASML PAS 5500/ 8TFM-A是一种先进的晶圆步进设备,在半导体制造业中起着至关重要的作用。PAS 5500/ 8TFM-A由光刻设备的领先供应商ASML开发,提供高精度和高性能,以满足先进半导体生产工艺的苛刻要求。这种最先进的晶圆步进器旨在实现卓越的分辨率、迭加精度和吞吐量,使半导体制造商能够生产出精确度和效率无与伦比的尖端集成电路。ASML PAS 5500/ 8TFM-A具有先进的光学、级技术和对准系统,以确保半导体晶片的精确阵列。这种晶片步进器的关键部件之一是投影透镜系统,负责以高保真度将图样从光掩模转移到晶片表面。PAS 5500/ 8TFM-A中的投影镜头单元采用最先进的光学元件和涂层,最大限度地减少像差,提高图像质量,从而获得更高的分辨率和图样保真度。除了高品质的光学器件外,ASML PAS 5500/ 8TFM-A还配备了精密的舞台机,能够在曝光过程中精确移动和定位晶圆。该级工具结合了先进的直线电动机、空气轴承和反馈控制机制,以确保晶圆定位平稳准确,这对于实现半导体生产中的紧密覆盖和关键尺寸控制至关重要。舞台资产的高速、高加速能力也为车型的整体吞吐量和生产力做出了贡献。此外,PAS 5500/ 8TFM-A具有坚固的对准设备,便于晶圆与光掩模精确对准,确保对多个光刻层进行适当的配准。对齐系统利用先进的传感器、算法和控制机制来检测和纠正任何错位错误,从而实现精确的模式配准和迭加控制。这种对准精度对于实现严格的设计公差和确保制造的集成电路的可靠性和性能至关重要。ASML PAS 5500/ 8TFM-A的另一个显着特点是其先进的照明单元,它在塑造光掩模图样暴露于晶圆表面的光源方面起着关键作用。PAS 5500/ 8TFM-A中的照明机设计为在整个视野中提供均匀受控的照明,优化了光刻图桉的曝光均匀性和对比度。这种均匀的照明对于实现一致的模式转移和最小化半导体制造中的模式失真至关重要。总体而言,ASML PAS 5500/ 8TFM-A是半导体行业中领先的晶圆步进工具,为先进的半导体生产过程提供了无与伦比的精度、分辨率和生产率。其先进的光学、舞台技术、对准资产和照明能力使其成为寻求突破半导体技术界限、向市场提供尖端集成电路的半导体制造商不可或缺的工具。
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